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LPE法在Si衬底上生长SiGe层的方法及电子特性的研究
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作者 陈建新 邹德恕 +2 位作者 张时明 韩军 沈光地 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第12期886-890,共5页
本文介绍了在电阻率为(77~300)kΩ·cm的n型(111)Si衬底上用LPE法生长高质量Si1-XGex单晶薄层(其厚度一般为1~3μm)的生长条件,并对引入的缺陷进行了TEM研究,结果表明其缺陷密度和用MB... 本文介绍了在电阻率为(77~300)kΩ·cm的n型(111)Si衬底上用LPE法生长高质量Si1-XGex单晶薄层(其厚度一般为1~3μm)的生长条件,并对引入的缺陷进行了TEM研究,结果表明其缺陷密度和用MBE及超高真空CVD法生长的同样厚度和组分的Si1-xGex薄层的缺陷密度相等甚至更低.霍尔迁移率μH与温度有μH∝Tm的关系,(在T=80~300K时,m=-0.95).当x>0.85时,μH的测量值和由Krishnamurthy计算的理论值相符,x<0.85,测量值仅为理论值的70%.由Bi杂质引入能级的电子激活能En与Ge的组分x有关.但在x=0.83时有最大值.其值分别为Bi在St,Ge体材料中的1/4.这表明用LPE生长的SiGe层的电子特性不但与Bi而且还与SiGe的结构特性有关. 展开更多
关键词 SIGE LPE法硅 外延生长 电子特性
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Si/SiGe腐蚀停止技术的研究及其在SiGe/SiHBT工艺中的应用
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作者 陈建新 袁颖 +3 位作者 杜春霞 张时明 赵玉琴 沈光地 《北京工业大学学报》 CAS CSCD 1996年第2期55-60,共6页
对SiGe/Si腐蚀停止技术进行了大量的实验研究,分析了腐蚀的化学机理,并在一定的腐蚀液浓度和温度下,获得了Si和SiGe的腐蚀速率比大于30的结果。该技术极宜在SiGe/SiHBT制作中应用。
关键词 硅锗 半导体工艺 腐蚀停止技术
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低阈值电流密度INGaAs/GaAs/AlGaAs应变量子阱激光器 被引量:2
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作者 徐遵图 徐俊英 +5 位作者 杨国文 张敬明 陈昌华 何晓曦 陈良惠 沈光地 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第5期321-324,共4页
利用分子束外延技术,生长了极低阈值电流密度、低内损耗、高量子效率的InGaAs/GaAs/AlGaAs应变量子阱激光器.在腔长900μm时,80μm宽接触激光器阈值电流密度是125A/cm2,在腔长为2000μm时是113A/cm2,这样低的阈值电流密度是目... 利用分子束外延技术,生长了极低阈值电流密度、低内损耗、高量子效率的InGaAs/GaAs/AlGaAs应变量子阱激光器.在腔长900μm时,80μm宽接触激光器阈值电流密度是125A/cm2,在腔长为2000μm时是113A/cm2,这样低的阈值电流密度是目前国内报道的最低值.激光器的内损耗和内量子效率分别是2cm-1和84%. 展开更多
关键词 量子阱激光器 分子束外延 低阈值电流密度
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SiGe/SiHBT发射结的寄生势垒及其对器件室温和低温特性的影响 被引量:1
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作者 徐晨 沈光地 +6 位作者 陈建新 邹德恕 李建军 罗辑 魏欢 周静 董欣 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第12期1208-1213,共6页
研究了 Si Ge/Si HBT基区 B杂质的偏析和外扩散对器件的影响 .发现用 MBE生长的Si Ge基区中 ,在材料生长时 B杂质的上述行为会严重破坏器件的室温电流增益并改变器件的低温性能 .采用数值计算分析了 B杂质的上述行为与在发射结产生的寄... 研究了 Si Ge/Si HBT基区 B杂质的偏析和外扩散对器件的影响 .发现用 MBE生长的Si Ge基区中 ,在材料生长时 B杂质的上述行为会严重破坏器件的室温电流增益并改变器件的低温性能 .采用数值计算分析了 B杂质的上述行为与在发射结产生的寄生势垒的关系 ,解释了器件温度特性的实验结果 .并根据计算模拟和实验 ,讨论了 Si 展开更多
关键词 SIGE HBT 寄生势垒 低温特性
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低温SiGe/Si HBT的研制及性能分析 被引量:1
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作者 徐晨 沈光地 +5 位作者 邹德恕 陈建新 邓军 魏欢 杜金玉 高国 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期285-286,274,共3页
用MBE(分子束外延 ,MolecularBeamEpitaxy)生长的材料研制了在低温工作的SiGe/SiHBT(异质结双极型晶体管 ,HeterojunctionBipolarTransistor) .其在液氮下的直流增益hfe(Ic/Ib)为 16 0 0 0 ,交流增益 β(ΔIc/ΔIb)为 2 6 0 0 0 ,分别... 用MBE(分子束外延 ,MolecularBeamEpitaxy)生长的材料研制了在低温工作的SiGe/SiHBT(异质结双极型晶体管 ,HeterojunctionBipolarTransistor) .其在液氮下的直流增益hfe(Ic/Ib)为 16 0 0 0 ,交流增益 β(ΔIc/ΔIb)为 2 6 0 0 0 ,分别比室温增益提高 5 1和 73倍 .测试了该HBT直流特性从室温到液氮范围内随温度的变化 ,并作了分析讨论 . 展开更多
关键词 SIGE/SI HBT 分子束外延 异质结双极晶体管 低温电子学
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MOCVD生长的高质量掺碳GaAs/AlGaAs材料的特性研究
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作者 廉鹏 邹德恕 +8 位作者 高国 殷涛 陈昌华 徐遵图 陈建新 沈光地 曹青 马骁宇 陈良惠 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第1期44-50,共7页
利用低压金属有机化合物汽相淀积方法,以液态CCl4 为掺杂源生长了高质量的碳掺杂GaAs/AlGaAs外延材料,研究了CCl4 流量、生长温度和Ⅴ/Ⅲ比等因素对外延材料中的碳掺杂水平的影响.采用电化学CV 方法、范德堡... 利用低压金属有机化合物汽相淀积方法,以液态CCl4 为掺杂源生长了高质量的碳掺杂GaAs/AlGaAs外延材料,研究了CCl4 流量、生长温度和Ⅴ/Ⅲ比等因素对外延材料中的碳掺杂水平的影响.采用电化学CV 方法、范德堡霍耳方法、低温光致发光谱和X射线双晶衍射回摆曲线测量等方法对碳掺杂外延材料的电学、光学特性进行了研究.实验制备了空穴浓度高达1.9×1020cm - 3的碳掺杂GaAs 外延材料和低温光致发光谱半宽小于5nm 的高质量碳掺杂Al0.3Ga0.7As 外延层.在材料研究的基础上,我们以碳为P型掺杂剂生长了GaAs/AlGaAs/InGaAs应变量子阱980nm 大功率半导体激光器结构,并获得了室温连续工作1W 以上的光功率输出. 展开更多
关键词 GAAS/ALGAAS MOCVD 碳掺杂 砷化镓
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新型大功率双波长半导体激光器的研制
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作者 郭伟玲 田咏桃 +5 位作者 李建军 马丽娜 鲁鹏程 王婷 邹德恕 沈光地 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2005年第1期129-132,共4页
提出了一种新结构半导体双波长激光器 ,即用隧道结把两个发射不同波长的激光器结构通过外延生长的方法连接起来。通过计算和设计 ,制备了性能良好的大功率激射的双波长半导体激光器。双波长器件的实际激射波长分别为 95 1 nm和 987nm,... 提出了一种新结构半导体双波长激光器 ,即用隧道结把两个发射不同波长的激光器结构通过外延生长的方法连接起来。通过计算和设计 ,制备了性能良好的大功率激射的双波长半导体激光器。双波长器件的实际激射波长分别为 95 1 nm和 987nm,为基模激射。器件在 5 3 0 m A直流工作时输出功率达到 5 0 0 m W,斜率效率为1 .3 3 W/A。在 2 A电流时功率达 2 .4W,斜率效率为 1 .3 8W/A;3 A电流时功率达 3 .1 W,斜率效率为 1 .2 1 W/A。 展开更多
关键词 大功率 半导体激光器 双波长 隧道结
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新型多有源区隧道再生光耦合大功率半导体激光器 被引量:18
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作者 廉鹏 殷涛 +6 位作者 高国 邹德恕 陈昌华 李建军 沈光地 马骁宇 陈良惠 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第12期2374-2377,共4页
针对大功率半导体激光器面临的主要困难 ,提出并实现了一种隧道再生多有源区耦合大光腔高效大功率半导体激光器机理 .该机理能有效地解决光功率密度过高引起的端面灾变性毁坏、热烧毁和光束质量差等大功率激光器存在的主要问题 .采用低... 针对大功率半导体激光器面临的主要困难 ,提出并实现了一种隧道再生多有源区耦合大光腔高效大功率半导体激光器机理 .该机理能有效地解决光功率密度过高引起的端面灾变性毁坏、热烧毁和光束质量差等大功率激光器存在的主要问题 .采用低压金属有机化合物气相淀积方法生长了以碳和硅作为掺杂剂的GaAs隧道结、GaAs/In GaAs应变量子阱有源区和新型多有源区半导体激光器外延结构 ,并制备了高性能大功率 980nm激光器件 .三有源区激光器外微分量子效率达 2 .2 ,2A驱动电流下单面未镀膜激光输出功率高达 2 .5W . 展开更多
关键词 半导体激光器 大功率 多有源区隧道再生激光器件
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