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金属化布线晶片级测试系统
1
作者
孙英华
郭伟玲
+3 位作者
程尧海
孙喆
李志国
张万荣
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1999年第1期58-60,共3页
晶片级测试方法是半导体器件(VLSI)金属化可靠性试验中的一种新方法,本研究在现有设备的基础上进行了一系列的设计和改进,建立了一套由微机控制的晶片级金属化电徙动测试系统,为金属化可靠性测试和在线监测的研究奠定了良好的...
晶片级测试方法是半导体器件(VLSI)金属化可靠性试验中的一种新方法,本研究在现有设备的基础上进行了一系列的设计和改进,建立了一套由微机控制的晶片级金属化电徙动测试系统,为金属化可靠性测试和在线监测的研究奠定了良好的基础。
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关键词
半导体器件
可靠性
晶片级测试
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职称材料
题名
金属化布线晶片级测试系统
1
作者
孙英华
郭伟玲
程尧海
孙喆
李志国
张万荣
机构
北京工业大学电子工程系半导体器件可靠性物理研究室
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1999年第1期58-60,共3页
文摘
晶片级测试方法是半导体器件(VLSI)金属化可靠性试验中的一种新方法,本研究在现有设备的基础上进行了一系列的设计和改进,建立了一套由微机控制的晶片级金属化电徙动测试系统,为金属化可靠性测试和在线监测的研究奠定了良好的基础。
关键词
半导体器件
可靠性
晶片级测试
Keywords
Semiconductor devices Reliability Wafer level test
分类号
TN306 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
金属化布线晶片级测试系统
孙英华
郭伟玲
程尧海
孙喆
李志国
张万荣
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1999
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