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蓝宝石基LED外延片背减薄与抛光工艺研究 被引量:9
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作者 李冰 郭霞 +3 位作者 刘莹 李秉臣 王东凤 沈光地 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第9期57-60,共4页
研究了蓝宝石基LED外延片背减薄过程中去除速率和表面粗糙度与研磨转速和研磨压力的关系,比较了不同的磨料颗粒度对去除速率和表面粗糙度的影响,并研究了抛光过程中表面粗糙度随时间的变化规律,为背减薄与抛光工艺的优化提供了依据。
关键词 蓝宝石 发光二极管 背减薄 研磨 抛光
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