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多元离子束增强沉积在新型薄膜材料上的应用
被引量:
1
1
作者
张涛
张通和
+3 位作者
张荟星
马本坤
李国卿
宫泽祥
《原子核物理评论》
CAS
CSCD
1997年第3期173-176,共4页
采用N++Cr+多元离子束增强沉积合成(TiCr)N膜层,对膜层进行了AES、TEM和XRD分析.测试了膜基体系的力学性能和电化学性能.与普通物理气相沉积相比,多元离子束增强沉积显示了开发新型薄膜材料的较强潜力.
关键词
离子束
薄膜
(TiCr)N
离子束增强沉积
IBED
下载PDF
职称材料
题名
多元离子束增强沉积在新型薄膜材料上的应用
被引量:
1
1
作者
张涛
张通和
张荟星
马本坤
李国卿
宫泽祥
机构
北京师范大学低能核物理所国家教委射线束材料工程开放实验室
大连理工
大学
三
束
实验室
出处
《原子核物理评论》
CAS
CSCD
1997年第3期173-176,共4页
基金
北京市自然科学基金
文摘
采用N++Cr+多元离子束增强沉积合成(TiCr)N膜层,对膜层进行了AES、TEM和XRD分析.测试了膜基体系的力学性能和电化学性能.与普通物理气相沉积相比,多元离子束增强沉积显示了开发新型薄膜材料的较强潜力.
关键词
离子束
薄膜
(TiCr)N
离子束增强沉积
IBED
Keywords
ion beam film (TiCr)N
分类号
TG174.442 [金属学及工艺—金属表面处理]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
多元离子束增强沉积在新型薄膜材料上的应用
张涛
张通和
张荟星
马本坤
李国卿
宫泽祥
《原子核物理评论》
CAS
CSCD
1997
1
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职称材料
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