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溅射气体中氩气含量对Y_1Ba_2Cu_3O_(7-δ)薄膜结构和T_c的影响
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作者 李季 王小平 +3 位作者 王霈文 齐善学 李弢 古宏伟 《中国稀土学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第z1期41-43,共3页
采用倒筒直流磁控溅射系统在不同溅射气体组分下(氩氧比不同)原位沉积Y1Ba2Cu2O7-δ(YBCO)薄膜。样品的XRD分析发现在Ar含量过高和过低的溅射气氛下沉积的薄膜存在极少量的BaCuO2第二相,同时显示薄膜的c轴长度,(006),(007)对(005)峰强... 采用倒筒直流磁控溅射系统在不同溅射气体组分下(氩氧比不同)原位沉积Y1Ba2Cu2O7-δ(YBCO)薄膜。样品的XRD分析发现在Ar含量过高和过低的溅射气氛下沉积的薄膜存在极少量的BaCuO2第二相,同时显示薄膜的c轴长度,(006),(007)对(005)峰强度比随着溅射气体中Ar含量的变化而发生改变。通过薄膜超导零电阻温度检测发现,YBCO薄膜的超导零电阻温度Tc随之发生改变。这说明在磁控溅射沉积YBCO薄膜过程中,溅射气体中Ar气含量影响薄膜各元素的化学计量比,Ar含量过高和过低导致沉积YBCO薄膜晶体结构发生畸变,恶化超导电性。 展开更多
关键词 Y1Ba2Cu2O7-δ (YBCO)薄膜 溅射气体组分 (Ar/O2) 超导零电阻温度
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