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溅射气体中氩气含量对Y_1Ba_2Cu_3O_(7-δ)薄膜结构和T_c的影响
1
作者
李季
王小平
+3 位作者
王霈文
齐善学
李弢
古宏伟
《中国稀土学报》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第z1期41-43,共3页
采用倒筒直流磁控溅射系统在不同溅射气体组分下(氩氧比不同)原位沉积Y1Ba2Cu2O7-δ(YBCO)薄膜。样品的XRD分析发现在Ar含量过高和过低的溅射气氛下沉积的薄膜存在极少量的BaCuO2第二相,同时显示薄膜的c轴长度,(006),(007)对(005)峰强...
采用倒筒直流磁控溅射系统在不同溅射气体组分下(氩氧比不同)原位沉积Y1Ba2Cu2O7-δ(YBCO)薄膜。样品的XRD分析发现在Ar含量过高和过低的溅射气氛下沉积的薄膜存在极少量的BaCuO2第二相,同时显示薄膜的c轴长度,(006),(007)对(005)峰强度比随着溅射气体中Ar含量的变化而发生改变。通过薄膜超导零电阻温度检测发现,YBCO薄膜的超导零电阻温度Tc随之发生改变。这说明在磁控溅射沉积YBCO薄膜过程中,溅射气体中Ar气含量影响薄膜各元素的化学计量比,Ar含量过高和过低导致沉积YBCO薄膜晶体结构发生畸变,恶化超导电性。
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关键词
Y1Ba2Cu2O7-δ
(YBCO)薄膜
溅射气体组分
(Ar/O2)
超导零电阻温度
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职称材料
题名
溅射气体中氩气含量对Y_1Ba_2Cu_3O_(7-δ)薄膜结构和T_c的影响
1
作者
李季
王小平
王霈文
齐善学
李弢
古宏伟
机构
北京有色家属研究总院超导中心
出处
《中国稀土学报》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第z1期41-43,共3页
基金
国家高技术研究发展计划"863"(22002AA306131)项目
文摘
采用倒筒直流磁控溅射系统在不同溅射气体组分下(氩氧比不同)原位沉积Y1Ba2Cu2O7-δ(YBCO)薄膜。样品的XRD分析发现在Ar含量过高和过低的溅射气氛下沉积的薄膜存在极少量的BaCuO2第二相,同时显示薄膜的c轴长度,(006),(007)对(005)峰强度比随着溅射气体中Ar含量的变化而发生改变。通过薄膜超导零电阻温度检测发现,YBCO薄膜的超导零电阻温度Tc随之发生改变。这说明在磁控溅射沉积YBCO薄膜过程中,溅射气体中Ar气含量影响薄膜各元素的化学计量比,Ar含量过高和过低导致沉积YBCO薄膜晶体结构发生畸变,恶化超导电性。
关键词
Y1Ba2Cu2O7-δ
(YBCO)薄膜
溅射气体组分
(Ar/O2)
超导零电阻温度
Keywords
magnetron sputtering
deposit YBCO thin film
superconducter
分类号
O614.33 [理学—无机化学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
溅射气体中氩气含量对Y_1Ba_2Cu_3O_(7-δ)薄膜结构和T_c的影响
李季
王小平
王霈文
齐善学
李弢
古宏伟
《中国稀土学报》
CAS
CSCD
北大核心
2003
0
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职称材料
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