特种气体中单元高纯气体的品种及用途(续)

本刊1983年No.4刊载了“特种气体中单元高纯气体的品种及用途”一文,时隔三年,作者又收集到20多种纯气,现予补充。

日本特种气体产销现状

日本微电子工业在世界上处于领先地位,因此,它的特种气体工业发展很快。日本生产特种气体的公司有40余家,总销售额居世界第二位。1989年世界特种气体销售额三个领先国家及其所占比例见表1,1989年日本各特种气体公司的总销售额见表2。

国际特种气体的技术特点和发展趋势

前言根据联合国开发计划署对我所的援助计划,近年来,我们先后对英、法、西德、美国和日本的特种气体行业进行了技术考察。现仅根据考察中的见闻和观感,对当前国际特种气体的技术特点和发展趋势作综合评述如下。一、特种气体的技术构成特种气体主要包括以下四大类別:(1)各种高纯和超高纯单元气。(2)

近代日本主要特种气体产品的开发

随着日本微电子工业的飞速发展,其特种气体行业发展也较快。日本生产特种气体的公司有40余家,总销售额居世界第二位。下面分别介绍近年来日本主要特种气体产品的开发情况。

美国制定的有毒特种气体一次排放标准

美国环境保护局(EPA)依据超级基金法修正案(Super Fund Amendments andReauthoriza tion Act(SARA)TitleⅢ)规定,于1986年10月17日提出《化学物质紧急处理权利法案》(Emergency Planningand Community Right-to-Know Act of1986),经议会通过,并于1988年末正式立法实施。此法案是公开的,不能作为公司的秘密,各管理部门有义务控制排放量。

特种气体中单元高纯气体的品种及用途

特种气体是由两大类气体组成的。一类为单元高纯气体，另一类为混合气体。对于单元高纯气体，根据现已收集到的文献，汇总起来共有227种，可分成五个类别。

绝热床中结炭B-02催化剂烧炭再生模拟研究

本文以工业两段绝热床中运行近4000h的已结炭B-02催化剂为研究对象,以曾得到的烧炭本征动力学模型为基础,考虑到内扩散的影响,建立了实际工业绝热床反应器烧炭再生过程的模型,并利用有限差分法求解。对两段绝热床及反应器分别进行计算机模拟,其结果表明:影响烧炭的主要因素有烧炭气体中氧的浓度,床层初始温度及气体质量流速,其中气流速度影响程度最大,而氧浓度影响最小。当烧炭气体的氧浓度和反应器的初始温度一定时,存在一临界气速;当氧浓度和气速一定时,存在一临界初始温度。只有当初始温度不超过临界值且气速不低于临界值时,才能进行安全烧炭再生。计算机模拟研究表明:利用空气进行安全烧炭是可行的。当床层初始温度为573K(结炭B-02催化剂起燃温度)时,在安全烧炭再生的气体质量流速下,烧炭期间床层最高温度低于723K。通过模拟求出了碳和氢的相对含量以及温度随时间变化及沿床层的分布;并对不同的炭烧出率所需烧炭时间也作了较为详细的讨论。

高纯气体输送装置的洁净

随着电子工业的发展和大规模集成电路的研制与生产，高纯气体已成为电子工业不可缺少的材料。虽然各半导体生产工艺对所用气体的纯度和洁净度要求不同，但同一种杂质给半导体生产带来的危害是一样的，总是使半导体产品质量劣化，成品率下降。例如，高纯氮、氢和氩气中有氧和水份时，会使半导体产品表面生成氧化膜；有碳化物时，会使半导体产品发生漏电；若有金属微粒子时，会使半导体产品出现漏电、耐压不良、晶格缺陷和断线等现象；如有其它尘埃粒子，同样会使半导体产品出现晶格缺陷和断线现象。

集成电路制造工艺及其使用的气体

本文从半导体制造工艺晶体生长与衬底制备、氧化、扩散、外延生长、化学汽相淀积、物理淀积、离子注入、刻蚀、光刻、合全化和焊接等方面，叙述了对气体使用的要求。

用卡尔费希法测定气体中的水分

将待测样品气导入联在滴定器(1)内的冷凝管(2)中，使该气体中的水分冷凝在冷凝管(2)内。接着，用惰性气体将滴定器内的样品气置换干净后，再用滴定试剂将冷凝在冷凝管(2)中的水分在滴定器(1)中刷洗。这就是用卡尔费希试剂滴定的气体中的水分定量法。

国外稳定性同位素研究的现状

稳定性同位素是特种气体的组成部分。提取稳定性同位素一般采用热扩散法、低温精馏法和化学交换法。稳定性同位素在农业、化工、医学、仪表、计量、检测技术等领域有广泛的用途。本文列举了同位素及化合物的品种、用途、包装方式、美国售价及世界产量的估计。我国稳定性同位素开发较早,但发展不太快,希引起有关方面的重视。应充分利用国内气源,分工合作,在研究、检测和包装手段方面努力填补国内空白,以满足国民经济发展的需要。

赴美、日气体过滤技术的考察

电子元件和电路制备技术的发展十分迅速，64k～256k位的超大规模集成电路已进入工业生产阶段，美国、日本1M位的在工业生产中已使用，并已在向4M位进行技术开发。

特种混合气的品种及其用途

汽油及柴油发动机废气排放法规，在国际上规定得比较严格。

毒性气体对人体的危害和中毒症状

我们在本刊1989年第1期上以“毒气对人体的危害和中毒症状”为题,介绍了 29种气体的情况,现继续介绍另外32种气体的情况如下。

集成电路制造工艺及其使用的气体

从半导体制造工艺晶体生长与社底制备、氧化、扩散、外延生长、化学汽相淀积、物理淀积、离子注入,刻蚀、光刻、合金化和焊接等方面,叙述了对气体使用的要求。

西德MG公司对钢瓶中剩余气体的处理

半导体用气大多是可燃性、腐蚀性极强的气体。一些带有剩余的毒性、腐蚀性或可燃性气体的钢瓶,由于长期存放或被忽视,加之气候影响而被腐蚀。腐蚀严重者会出现泄漏。可燃性气体的泄漏,能引起爆炸和火灾。毒性气体的泄漏,会给人的健康、生命造成很大的危害。因此,已严重腐蚀的钢瓶中的剩余气体如不及时排放掉,将是严重的危害隐患。

集成电路制造工艺及其使用的气体

本文从半导体制造工艺晶体生长与衬底制备、氧化、扩散、外延生长、化学汽相淀积、物理淀积、离子注入、刻蚀、光刻、合金化和焊接等方面，叙述了对气体使用的要求。

柱萃取法测定农作物中的残留农药和土样中的二恶英

经均质的固体样品，根据含水量的不同和被测定组分的差异，分别与硅藻土、硫酸钠、弗罗里硅土等吸附剂混匀成可流动的粉末，装填成柱，然后以不同极性溶剂淋洗。多数情况下，所得溶液不需要进一步净化即可进行色谱分析．用极性溶剂如乙酸乙酯淋洗，选用任一种分散剂均能有效测定作物中的农药残留．在最佳条件下，一些有机磷、有机氯、氨基甲酸酯、拟除虫菊酯农药在某些粮谷、水果和蔬菜中以及多氯二苯并二恶英（ＰＣＤＤｓ）在土样中的添加回收率均大于８０％．实践证明该方法具有省时、省试剂、省净化程序等优点．

电子级高纯氯化氢的研制

一引言高纯氯化氢是电子工业中制造大规模集成电路所需的重要材料之一。我国电子工业所用高纯氯化氢过去大多是从美、日等国进口。由于进货不及时,且价格昂贵,国内只好采用硫酸洗涤除氯化氢中的水,或用盐酸脱析制得纯氯化氢气体,这就使水份等杂质含量高,严重影响了电子元件的质量。1983年,我所接受了研制高纯氯化氢的任务。经过3年努力,已于1986年制得合格产品。

半导体用气的安全及解毒处理

用于制造半导体的气体，大部分是易燃、易爆，剧毒的气体，如AsH3、SiH4、PH3、B2H6、HC1等，在大气中它们的最大允许浓度分别为0.05、5.0、0.3、0.1、5.0ppm。因此，在电子气生产、使用、贮存过程中的废渣、废气都要进行解毒处理，