多弧离子镀中磁场对电弧运动影响的研究

多弧离子镀技术中的关键部件是蒸发源,蒸发源的电弧放电特性受磁场的严格控制。本文对真空电弧等离子体在磁场中的受力进行了分析,研究了磁场对电弧运动的影响规律。

多弧离子镀中真空等离子体静电探针诊断方法的研究

多弧离子镀中的等离子体是由辉光等离体和弧光等离子体迭加而成的。本文主要叙述了这种等离子体诊断方法和对用静电探针诊断这种等离子体的研究成果。这套等离子体诊断系统性能稳定，是目前国内外用于诊断多弧离子镀中等离子体的首套系统。用它诊断出的等离子体参数是首次对这种等离子体的数量描述。等离子体参数为；在真空度为２．６７Ｐａ～１０．６Ｐａ，放电电流为５０Ａ～８０Ａ，工件偏压为０～—２ｋＶ的条件下，等离子体密度在１．３×１０１５ｍ－３～２．３×１０１５ｍ－３范围内，电子温度在４３０至６６０ｅＶ范围内，空间电位相对于阳极为正，且在２伏至３伏范围内。

交流电弧离子镀技术的研究

本文论述了交流电弧的伏安特性、再引弧现象和电弧稳定性三个方面的性能。介绍了交流电弧离子镀的原理和结构。本文指出，交流电弧离子镀技术在沉积ＴｉＡｌＮ等多元涂层方面有它非常突出的优势。

多弧离子镀设备阴极电弧蒸发源工作稳定性的研究

多弧离子镀技术近年来发展极为迅速，已生产出多种类型的多弧离子镀设备并已投产使用。设备中阴极电弧蒸发源工作性能的好坏直接影响到产品质量。本文在大量实验的基础上对蒸发源的工作稳定性，进行了探讨、研究，分析其影响因素和原因，并提出一些解决办法。

大面积矩形电弧蒸发源电磁场的研究

大面积矩形电弧蒸发源合理的设置靶源磁场并有效的控制电弧弧斑的运动是十分重要的。本文基于大量的试验研究对电磁场在靶面各处产生的磁场强度的计算进行了理论推导，建立了数学模型，并进行了比较精确的计算。计算结果与实测值很好的吻合，该计算可作为大面积矩形电弧蒸发源电磁场设计的依据。

多弧离子镀与离子渗中影响光电温度计测温因素的研究

在多弧离子镀和离子渗金属中影响光电温度计测量精度的因素很多，本文通过大量试验、定性和定量的研究了诸因素，得出了校对光电温度计的线性回归方程。在实际测量中，取ε＝０．２能较准确地测量出工件的真实温度。受弧光亮度的影响。光电温度计的指示值高出工件温度６５～７０℃。对于渗 Ｔｉ和渗１Ｃｒ１８Ｎｉ９Ｔｉ的工件表面，其辐射性能相似。对于镀ＴｉＮ和渗Ｔｉ的工件表面利用光电温度计测温时，其指示值相差５℃。透过光学石英玻璃测量时，光电温度计指示值比工件低１７℃，而透过普通玻璃测量时，其指示值比工件温度低６５～８０℃。

大型回火炉炉温的均匀性

为满足大型炮管回火时严格的温度均匀性要求,对炉子结构进行了试验和分析。本文介绍了大型回火炉的主要技术参数和结构形式。该炉炉膛尺寸(mm)为7800 ×1100×1000,可满足在357℃低温下炉温均匀度<± 12.5℃的要求。

PC机在ZC_2-65型双室真空淬火炉上的应用

PC机是面向工业现场,供工业控制用的专用计算机,它的可靠性,抗干扰性大大超过了微型计算机在工业领域的信誉度,因而,有很强的吸引力。国外,PC机在工业领域的应用已经相当普及。近年来,国内很多厂家也开始采用。我厂根据真空炉机械运行动作复杂,开关量多,生产现场环境差等特点,首先在ZC_2-65型双室真空淬火炉上进行了尝试。

LHD—800型多弧离子镀膜机复合热处理

LHD——800型多弧离子镀膜机是在真空环境中,采用蒸发源新技术,使钛等金属材料蒸发并电离,同时通入氮气,使它在等离子体环境中游离为正离子,然后靠电场力将这些离子加速并沉积在工件表面,化合为氧化钛硬质薄瑛。也可在较大型刀具,工模具表面离子氮化,离子茂膜(TIN)和离子渗镀—渗氮后再涂复一层氮化钛,对耐磨、耐腐蚀起到超硬膜的作用,以改善刀、模具性能,提高使用寿命。一、试验用设备试验用设备LHD—800型多弧离子镀膜机,性能如下。