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立方氮化硼晶体的电学性质与电流控制微分负阻 被引量:1
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作者 窦庆萍 马海涛 《中国科学(E辑)》 CSCD 北大核心 2008年第11期1952-1957,共6页
研究了非故意掺杂的n型cBN晶体的电学性质.所研究的cBN晶体是由六角氮化硼在高温高压下以镁粉为催化剂转化而来.在室温下,测量了cBN晶体的伏安特性,为非线性伏安特性.当电场强度在10^5~1.5×10^5V/cm范围内时,cBN晶体发生... 研究了非故意掺杂的n型cBN晶体的电学性质.所研究的cBN晶体是由六角氮化硼在高温高压下以镁粉为催化剂转化而来.在室温下,测量了cBN晶体的伏安特性,为非线性伏安特性.当电场强度在10^5~1.5×10^5V/cm范围内时,cBN晶体发生电击穿.同时,cBN晶体发出波长为380~400nm的蓝紫光.继续测量cBN晶体伏安特性,发现cBN晶体出现电流控制型微分负阻.这些实验现象是可以重复的. 展开更多
关键词 非故意掺杂的n型cBN晶体 非线性伏安特性 电流控制微分负阻
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