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题名基于电子快门实现CCD曝光量无级调节技术
被引量:14
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作者
王海涌
申功勋
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机构
北京航空航天大学航天制导导航控制系
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出处
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第8期136-139,共4页
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文摘
为了在景物照度变化条件下保持图像特定目标的亮度基本恒定,提升摄像测控系统的性能,提出了CCD电子快门配合分档光圈实现曝光量无级调节的自适应控制方法。该方法针对光圈换档和电子快门动作在延时性能上的显著差异,将光圈换档对光通量的粗调和电子快门时间的精调两者实时配合,来控制曝光量,算法的实际运用需要通过实验建立光圈换档动力学模型。
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关键词
电子快门
无级调节
CCD
曝光量
自适应控制
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Keywords
Electronic shutter
Stepless adjustment
CCD
Light exposure
Adaptive control
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分类号
V248.1
[航空宇航科学与技术—飞行器设计]
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题名玻璃基片双面光刻对准工艺流程的研究
被引量:2
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作者
王海涌
吴志华
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机构
北京航空航天大学航天制导导航控制系
中北大学电子与计算机科学技术学院
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出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第8期576-578,共3页
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基金
航天支撑技术基金项目(编号不公开)
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文摘
介绍了双面光刻对准原理及技术新发展,表明了不变焦对准的技术优势。针对玻璃基片设计了十字加方框的对准图样,经重新调焦,利用基片透明属性透过基片标记观测掩模标记实现对准,不再采用静态存储的掩模数字图像作为精对准基准,规避了可能由物镜侧移带来的对准误差。最后提供了几种常用的对准标记图样,并为了加工操作的便利引入了辅助搜索线。
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关键词
镀膜
双面光刻
双面对准
对准标记
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Keywords
mask
double-sided lithography
double-sided alignment
alignment key
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分类号
TH745.2
[机械工程—光学工程]
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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