PDP制作中的曝光技术

随着等离子显示器(PDP)制作技术的逐渐成熟,光刻技术在PDP的制作中也越来越重要。本文论述了在PDP制作中影响曝光质量的有关因素,从曝光的主要影响因素进行阐述,并结合实例进行了分析论证。

丝网印刷技术在PDP制作中的应用

本文简要介绍了丝网印刷技术的基础知识，对印刷中的影响因素进行了分析，并以实例进行说明。

氧化镁陶瓷的烧结工艺研究

以硝酸镁、碳酸氢氨为原料,采用均相沉淀法制备碱式碳酸镁,经过不同温度煅烧制得MgO粉体,将粉体压制成型后,经不同温度下烧结,制备MgO陶瓷。TG-DTA、XRD和SEM分析结果表明:碱式碳酸镁的最佳煅烧温度为750℃左右,所制得的MgO粉体的晶粒大小为22.25 nm。MgO陶瓷最佳烧结温度为1500℃,所得到的陶瓷结构致密、气孔较少、收缩率较高、透光性最好。随着烧结温度的升高,MgO陶瓷中的晶粒有沿(200)晶面择优生长的趋势。

MVA模式TFT-LCD用彩色滤光片制程解析

彩色滤光片简称为CF,是TFT-LCD面板最主要的部件之一,其成本约占面板材料总成本的15%～30%。彩色滤光片的主要制程有BM的制作、RGB的制作、PS的制作、MVA体的制作。

TFT-LCD的宽视角技术

随着TFT-LCD显示技术的不断发展,宽视角模式已经成为业界追求的目标。本文通过对TFT-LCD显示模式的叙述,分析了各种流行显示模式的特点,希望能为了解TFT-LCD有所帮助。

等离子显示屏制作中的曝光技术

随着等离子显示屏制作技术的逐渐成熟，光刻技术在等离子显示屏的制作中也越来越重要了。本文论述了在等离子显示屏制作中影响曝光质量的相关因素，从曝光的主要影响因素进行分析阐述，并结合实例进行了分析论证。

等离子显示屏制作中曝光间隙对图形结果的影响

在等离子显示屏制作中，采用平行光进行曝光，曝光时母版和玻璃基板的间隙对图形结果有一定的影响。本文以实例分析论述了曝光间隙对线条图形的具体影响，对等离子显示屏设计时的参数修正有一定的参考意义．

贴膜技术在等离子显示屏制作中的应用

在等离子显示屏的制作中，贴膜技术曾经起着重要的作用，为新材料的发展提供了机遇。本文结合等离子显示屏中贴膜技术的具体制作方法进行分析论述，探讨贴膜技术在显示屏制作中的应用及发展趋势。