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改进器件工艺降低硅光电探测器暗电流
被引量:
1
1
作者
朱光华
郑国祥
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1996年第4期48-51,共4页
为降低硅光电探测器p-n结反向暗电流,可在器件制作工艺中采用一系列完美晶体器件工艺PCDT。在实施过程中,作者对吸除工艺、应力补偿工艺等作了改进,进一步降低了反向暗电流。
关键词
硅光电探测器
暗电流
吸除工艺
应力补偿工艺
下载PDF
职称材料
题名
改进器件工艺降低硅光电探测器暗电流
被引量:
1
1
作者
朱光华
郑国祥
机构
华东理工大学光电器件研制室
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1996年第4期48-51,共4页
文摘
为降低硅光电探测器p-n结反向暗电流,可在器件制作工艺中采用一系列完美晶体器件工艺PCDT。在实施过程中,作者对吸除工艺、应力补偿工艺等作了改进,进一步降低了反向暗电流。
关键词
硅光电探测器
暗电流
吸除工艺
应力补偿工艺
分类号
TN215 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
改进器件工艺降低硅光电探测器暗电流
朱光华
郑国祥
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1996
1
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