期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
改进器件工艺降低硅光电探测器暗电流 被引量:1
1
作者 朱光华 郑国祥 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1996年第4期48-51,共4页
为降低硅光电探测器p-n结反向暗电流,可在器件制作工艺中采用一系列完美晶体器件工艺PCDT。在实施过程中,作者对吸除工艺、应力补偿工艺等作了改进,进一步降低了反向暗电流。
关键词 硅光电探测器 暗电流 吸除工艺 应力补偿工艺
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部