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ZnO-B_2O_3-SiO_2系统低介陶瓷的烧结工艺研究 被引量:1
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作者 庞京涛 郑金标 吴纬 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第3期25-28,共4页
通过热分析确定基本的的烧结温度制度,并且调整烧结工艺参数使粉料在不同的条件下进行烧结,通过对烧成后的样品的表观性能、介电性能和微观结构的分析,探讨了不同烧结制度对于ZnO-B2O3-SiO2系统的介电性能的影响。结果表明:该陶瓷... 通过热分析确定基本的的烧结温度制度,并且调整烧结工艺参数使粉料在不同的条件下进行烧结,通过对烧成后的样品的表观性能、介电性能和微观结构的分析,探讨了不同烧结制度对于ZnO-B2O3-SiO2系统的介电性能的影响。结果表明:该陶瓷系统致密化过程主要发生在900~1050℃之间,采用最高烧结温度1050℃,保温时间为60min.快速冷却(-20℃/min)的工艺烧成的陶瓷,致密性好,晶粒分布均匀且粒径大小适中,具有良好的介电性能(εr=4.75,tgσ=9.001,1MHz)。 展开更多
关键词 低介电陶瓷 烧结工艺 ZnO-B2O3-SiO2系统
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