提高抗激光烧蚀能力的表面尖形微结构器件

讨论了光刻热熔成形工艺灰度掩模技术结合离子束蚀刻制作面阵尖形微结构器件的问题 ,分析了几种凸尖及凹尖结构抗入射激光烧蚀的能力强于平面端面同质器件的原因 ,所作的若干分析结果可用于这类器件的实际制作和应用。

用于微器件制作的灰度掩模技术

讨论了灰度掩模技术在凸及凹形微透镜、折衍射复合微透镜和微尖形阵列等器件制作方面的应用 ,给出了与几种典型的凸及凹形微透镜、折衍射复合微透镜和微尖形结构对应的灰度掩模板的设计实例及其应用 ,为灰度掩模技术制作微透镜器件及微尖形阵列奠定了基础。

近场记录技术的特点和应用

近场记录技术是一种崭新的存储记录技术，它结合了硬盘和磁光盘记录技术的特点，能给用户提供一种大容量、高性能、低成本的存储解决方案．近场记录技术的发展和应用将为计算机存储工业带来新气象．开始分析了近场记录技术的四个技术创新：浮动飞行头、固态浸没物镜、首层记录技术、月牙记录技术；然后介绍了近场记录技术的应用并展望了其前景．