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非梯度折射率型面阵平面微透镜
1
作者
张新宇
汤庆乐
+1 位作者
张智
裴先登
《微细加工技术》
2001年第2期76-80,共5页
采用常规的光刻热熔法及灰度掩模技术 ,结合离子束蚀刻与溅射制作面阵非梯度折射率型平面折射和平面衍射微透镜 ,定性分析了不同的工艺条件下所得到的平面端面微光学器件的种类和形貌特征 ,给出了在石英衬底表面通过光刻热熔工艺和氩离...
采用常规的光刻热熔法及灰度掩模技术 ,结合离子束蚀刻与溅射制作面阵非梯度折射率型平面折射和平面衍射微透镜 ,定性分析了不同的工艺条件下所得到的平面端面微光学器件的种类和形貌特征 ,给出了在石英衬底表面通过光刻热熔工艺和氩离子束蚀刻所得到的两种球面及圆弧轮廓特征的面阵凹形掩模的表面探针测试曲线 ,对平面微透镜阵列与IRCCD成像芯片和半导体激光器阵列的集成结构作了初步分析。
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关键词
非梯度折射率
平面微透镜阵列
离子束蚀刻
溅射
光刻
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职称材料
题名
非梯度折射率型面阵平面微透镜
1
作者
张新宇
汤庆乐
张智
裴先登
机构
华中大学计算机院外存储系统国家专业实验室
中国船舶重工集团
华中
光电技术研究所光电二部
光电子工程系
出处
《微细加工技术》
2001年第2期76-80,共5页
基金
2000年中国博士后科学基金资助项目
湖北省自然科学基金资助项目! (2 0 0 0J150 )
文摘
采用常规的光刻热熔法及灰度掩模技术 ,结合离子束蚀刻与溅射制作面阵非梯度折射率型平面折射和平面衍射微透镜 ,定性分析了不同的工艺条件下所得到的平面端面微光学器件的种类和形貌特征 ,给出了在石英衬底表面通过光刻热熔工艺和氩离子束蚀刻所得到的两种球面及圆弧轮廓特征的面阵凹形掩模的表面探针测试曲线 ,对平面微透镜阵列与IRCCD成像芯片和半导体激光器阵列的集成结构作了初步分析。
关键词
非梯度折射率
平面微透镜阵列
离子束蚀刻
溅射
光刻
Keywords
non-gradient refractive index
planar microlens array
ion beam erching and sputtering
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
非梯度折射率型面阵平面微透镜
张新宇
汤庆乐
张智
裴先登
《微细加工技术》
2001
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