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电子束法沉积 ITO 透明导电膜的研究 被引量：9
1
作者 史济群 周京英 +1 位作者 马稚尧 马洪磊 《华中理工大学学报》 CSCD 北大核心 1998年第3期10-12,共3页
论述了ＩＴＯ膜的导电机理及生长机理，讨论了电子束加热真空蒸镀ＩＴＯ膜的方法中，膜的组分、氧分压、衬底温度和蒸发速率等几个参数对ＩＴＯ膜光电性能的影响．在选择合适的工艺条件下制备ＩＴＯ膜，电阻率约４×１０－４Ω·... 论述了ＩＴＯ膜的导电机理及生长机理，讨论了电子束加热真空蒸镀ＩＴＯ膜的方法中，膜的组分、氧分压、衬底温度和蒸发速率等几个参数对ＩＴＯ膜光电性能的影响．在选择合适的工艺条件下制备ＩＴＯ膜，电阻率约４×１０－４Ω·ｃｍ，可见光范围内平均透过率高于９０％． 展开更多
关键词 ITO 薄膜 氧空位 蒸汽分压 电子束沉积 导电膜
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