4种抛光套装对cercon氧化锆抛光后表面粗糙度的对比研究

目的评价4种不同抛光套装的抛光效果。方法选择合适的氧化锆试件50个,表面使用蓝色金刚砂车针处理至无瑕疵,随机分成5组,每组10个试件。A组为阴性对照组,B组为EVE组,C组为SHOFU组,D组为道邦组,E组为NAIS组,进行逐级抛光。所有试件每级进行一次处理后,均测量试件表面粗糙度Ra值。每组每一级处理后随机选取一个试件放入真空镀膜仪进行表面喷金,在扫描电镜中抽真空后进行表面形貌观测。结果最终Ra值:阴性对照组((1.677±0.066)μm)>SHOFU组((0.357±0.037)μm)>EVE组((0.248±0.051)μm)>道邦组((0.115±0.039)μm)、NAIS组((0.123±0.029)μm)。扫描电镜观察:使用金刚砂车针在试件表面留下的划痕最深且长,使用抛光套装依次处理试件表面可使试件表面逐渐光滑。经过NAIS组及道邦组抛光后的试件表面在镜下划痕最少且较浅。结论道邦及NAIS氧化锆抛光套装的抛光效果最好。

猛性龋相关牙菌斑生物膜及其代谢特征的研究进展

龋病是常见、多发疾病,在各类口腔疾病中发病率位居前列。猛性龋,是急性龋一种,病程进展快,龋损涉及范围广,临床治疗难度高。牙菌斑生物膜是微生物生长、发育、繁殖、衰亡、进行复杂代谢活动的重要微生态环境,其代谢过程与猛性龋发生发展密切相关。本文对猛性龋牙菌斑生物膜代谢特征的研究进展作一综述,为猛性龋的防治及微生物病因学研究提供理论依据。