机械研磨影响高岭石结构的光谱研究

将高岭石矿物分别用干法和湿法连续研磨 ,通过不同研磨时间各粉样的傅立叶变换红外光谱(FTIR)及 X射线衍射光谱 (XRD)的实测和比较 ,发现干法研磨 12 h高岭石的结构开始改变 ,经 42 h其层状结构完全破坏。但在湿法条件下即使研磨 5 4h,高岭石的结构也无明显变化。由此可见 ,湿法研磨比干法好。文中还初步探讨了研磨影响粘土结构的原因。

千克级窄摩尔质量分布PS的合成及其表征

以正丁基锂为引发剂 ,环己烷为溶剂 ,四氢呋喃为促进剂 ,采用阴离子聚合法 ,在常压和惰性气体条件下 ,制备了一系列千克级窄摩尔质量分布的PS。用1HNMR、IR、GPC其进行了表征。

研磨影响粘土结构的红外光谱研究

将高岭石和蒙脱石两种粘土矿物分别用 干法和湿法连续 研磨，通过不同研磨 时间的各粉样的 傅里叶变换红 外光谱（ Ｆ Ｔ Ｉ Ｒ） 的实测和比较，发现 干法研磨１２ｈ 高岭石和 蒙脱石的结构均开 始改变，经 ４２ｈ 高岭石的层状结构完全破坏，而经２４ｈ 蒙脱石的层状结构即被破坏。但在湿法条件下研磨５４ｈ ，它们的结构均无明显变化。由此可见，湿法研磨比干法好。文中还初步探讨了研磨影响 粘土结构的原因。

新型酰亚胺类化合物的^1HNMR研究

合成了１２种不同类型的酰亚胺类化合物，用１ＨＮＭＲ研究了这些化合物相应的单体和酰胺酸。阐述了氮上孤电子对的离域对苯环上质子的屏蔽作用以及羰基的去屏蔽效应对质子化学位移的影响。用ＩＲ研究了脱水后的酰亚胺化合物。其１ＨＮＭＲ和ＩＲ的结果皆令人满意。