有源矩阵液晶显示器微功耗低温加固技术

介绍一种新研制的低温液晶显示器(LCD),在显示器中设计了一套透明的加热、真空保温、抗眩光及电磁屏蔽装置,低温工作时,只需非常小的加热功率,就能使液晶显示器正常工作,同时可以利用该装置中的氧化铟锡(ITO)导电膜层满足显示器视窗对防眩光及电磁兼容(EMC)特性的要求。这种新型低温加固型LCD集多种特殊功能于一体,具有功耗低、亮度高、可靠性好、抗眩光、EMC性能好及结构便于组装等多项显著优点。

彩色PDP喷砂工艺的障壁层清除速率和工艺稳定性研究

提出了彩色PDP喷砂工艺障壁层清除速率的测量公式和减小测量误差的方法 ,讨论了影响清除速率的相关参数及用清除速率定量控制喷砂工艺的条件。指出高耐磨并采用特殊设计的喷头是提高喷砂工艺稳定性和可控性的关键 ,小孔径圆柱状喷头不适用于大生产喷砂工艺。

彩色PDP障壁粉清除速率公式与喷砂工艺控制研究

本文讨论了彩色PDP喷砂工艺中障壁粉清除速率与喷砂工艺控制参数之间的关系,提出了用障壁粉清除速率公式来控喷砂工艺的方法。

彩色PDP的研究课题

简述了彩色PDP的研究课题、相关的技术问题、需解决的关键技术及相关的重点研究课题。

液晶显示器件的最新发展

简要介绍液晶显示器件其市场现状和未来发展方向 ,主要叙述TFT LCD、LCOS等技术的特点、最新发展及运用前景。

一种提高硅基OLED微显示器对比度的像素电路

提出了一种应用于硅基有机发光二极管(Organic light emitting diode,OLED)微显示驱动芯片的新型像素单元电路,具有三个MOSFET和一个存储电容。相比传统的电压驱动像素单元电路,增加的一个MOSFET,可以根据输入数据的变化,自动调节其等效电阻,降低像素单元的最小输出电流。本像素电路能够在较宽的OLED公共阴极电压范围内维持很大的电流比率。该电路采用SMIC 0.35μm 2P4M混合信号工艺进行设计,目前已成功应用于一款分辨率为800×600,像素节距为15μm×15μm的硅基OLED驱动芯片,经测试验证,输出电流范围为280pA^65nA,可以同时满足OLED阵列高亮度和高对比度的要求。

光刻工艺参数的优化方法

通过引入有效时差的概念 ,提出了一种可模拟光刻工艺参数间的相互关系及优化光刻参数的方法。与Dill及Mack等的方法相比 ,该方法可直接建立光刻工艺参数之间的关系 ,并可对光刻工艺进行优化设计。

厚膜光刻工艺在PDP中的应用

简要介绍了表面放电型 ACPDP制作工艺中电极、障壁和荧光粉的厚膜光刻技术 。

LCD用彩色滤色器的现状和进展

简要综述了LCD用彩色滤色器研究的现状，报道了彩色滤色器市场和生产的变化情况，介绍了彩色滤色器研究发展的新动向。

像素的形状和大小与LCD的视角特性

通过对相邻像素的投影和杂散光的研究，很好地解释了 Ｌ Ｃ Ｄ 像素的形状和大小与对比度和视角特性的关系，并指出当 Ｌ Ｃ Ｄ 器件在 Ｃｒ ＞ １ 的有效显示区中，其大像素的对比度比小像素的大，同时也强调了相邻像素的选通态对 Ｌ Ｃ Ｄ 测量结果的影响。

厚膜印刷模型

提出了厚膜印刷的物理模型 ,并用静态模型建立了丝网印刷参数和图形的压印形变量之间的关系 ,以解决实际印刷工艺中的图形匹配和精确套印问题。

彩色PDP光刻工艺的优化理论和设计

提出了用有效时差优化彩色PDP光刻工艺参数的理论和优化设计方法 ,并用实例说明了该理论的实用性。

相邻像素的投影和杂散光对反射型LCDs对比度的影响

研究了相邻像素的投影和杂散光对反射型ＬＣＤｓ对比度的影响。结果表明，在ＬＣＤｓ的测量过程中，由于受邻近像素的投影和杂散光的影响，当和被测像素邻近的像素和被测像素同时选通时，可使测量到的对比度和视角特性发生不容忽视的变化；被测像素的尺寸越小，其测量对比度和视角范围受相邻像素的选通状态的影响越大。