分子印章法DNA芯片的合成(Ⅰ)——PDMS印章的固定与收缩研究

用MicronXYZScope考察了用不同方法处理的玻璃片对膜厚为 0 .6～ 1 .0mm ,阵点高度为 1 5μm的聚二甲基硅氧烷 (PDMS)印章的粘附固定情况以及对印章收缩的影响 .经硅烷化的玻璃片与PDMS印章结合牢固 ,虽然印章表面阵点的面积收缩为 0 2 86% ,但由于分子间的强相互作用力以及分子之间的铆合作用 ,使其印章的线收缩为 0 0 4 0 3% .这一结论保证了寡核苷酸合成过程中一套印章在合成载片位点上的多次准确定位以及印章多次压印偶联反应不发生错位 ,亦即为分子印章法DNA芯片的正确合成提供了依据 .

电解致酸脱保护DNA在片合成研究

提出了以电解致酸脱保护法为特征的电助DNA在片合成新方法 .在 2 .0V电解电位下电解水 ,释放氢离子并富集于阳极极板附近 ,导致局部酸度增强 ,使核酸单体分子发生脱保护反应 .测定了该合成方法的合成产率与电解时间 ,支持电解质浓度 ,水浓度等条件的关系 .结果表明 ,电解时间越长 ,脱保护效率越高 ,两者基本呈线性关系 ;

氧化还原电解脱保护DNA在片合成新方法的探讨

DNA芯片是一种新的高通量DNA分析检测技术。DNA芯片把大量已知序列探针集成在基片上 ,通过与标记的若干靶核苷酸序列杂交 ,可以对生物细胞或组织中大量的基因信息进行检测和分析。DNA芯片的制备方法大致可以分为点样法和在片合成法。本文初步探索了以氧化还原电解脱保护法为特征的电助基因芯片制备方法 。

分子印章法DNA芯片的合成──Ⅱ.接触压印反应在片合成寡核苷酸

研究了分子印章法ＤＮＡ芯片在片合成技术中的压印化学合成过程，提出了压印偶联反应和压印脱二对甲氧基三苯基阳离子（ＤＭＴ）反应合成寡核苷酸的２种方案，并对其合成产率的差异进行了比较．由于单次压印偶联反应比压印脱ＤＭＴ反应合成效率高且所需时间短，故选择压印偶联反应来合成寡核苷酸及其阵列并对其工艺进行了优化．实验表明压印偶联反应的合成效率高，从第６个核苷开始偶联效率接近１００％；压印 ２次比压印 １次的偶联效率高且更均匀；压印 ３次及３次以上除更均匀外对偶联效率的改善不明显；玻璃载片经多次压印后对偶联反应的影响不大．用压印偶联反应的方法成功合成出 ２０ ｍｅｒ的寡核苷酸探针．