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用离子注入技术制作的砷化镓霍尔传感器
1
作者
夏先齐
茅保华
《计算机自动测量与控制》
CSCD
1999年第1期51-54,共4页
针对器件低内阻下的高灵敏度这一器件特性上的难题,在砷化镓霍尔传感器设计中采用非对称十字形结构。在制作上采用全离子注入平面化技术,获得了在800Ω内阻上大于25mV/mA·KG的高灵敏度。
关键词
霍尔传感器
砷化镓
离子注入
霍尔器件
传感器
下载PDF
职称材料
题名
用离子注入技术制作的砷化镓霍尔传感器
1
作者
夏先齐
茅保华
机构
南京西格玛微电子研究所
出处
《计算机自动测量与控制》
CSCD
1999年第1期51-54,共4页
文摘
针对器件低内阻下的高灵敏度这一器件特性上的难题,在砷化镓霍尔传感器设计中采用非对称十字形结构。在制作上采用全离子注入平面化技术,获得了在800Ω内阻上大于25mV/mA·KG的高灵敏度。
关键词
霍尔传感器
砷化镓
离子注入
霍尔器件
传感器
Keywords
Hall sensor GaAs Ion implantation Sensitivity
分类号
TN382.053 [电子电信—物理电子学]
TP212 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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作者
出处
发文年
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1
用离子注入技术制作的砷化镓霍尔传感器
夏先齐
茅保华
《计算机自动测量与控制》
CSCD
1999
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