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H处理对a-Si TFT矩阵性能的改善作用
被引量:
3
1
作者
赵颖
熊绍珍
+6 位作者
孟志国
代永平
周祯华
姚伦
张建军
孙钟林
徐温元
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1997年第1期58-60,共3页
在PECVD系统制备a-SiTFT矩阵工艺中采用氢射频等离子辉光放电产生的H,钝化SiNx表面的硅悬键,从而使a-So:H/SiNx界面态得到减小.由此制备出的a-SiTFT矩阵,其性能得到明显改善.
关键词
开关器件
H处理
半导体器件
下载PDF
职称材料
题名
H处理对a-Si TFT矩阵性能的改善作用
被引量:
3
1
作者
赵颖
熊绍珍
孟志国
代永平
周祯华
姚伦
张建军
孙钟林
徐温元
机构
南开大学光电子薄膜器件和工艺研究所
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1997年第1期58-60,共3页
基金
国家自然科学基金
文摘
在PECVD系统制备a-SiTFT矩阵工艺中采用氢射频等离子辉光放电产生的H,钝化SiNx表面的硅悬键,从而使a-So:H/SiNx界面态得到减小.由此制备出的a-SiTFT矩阵,其性能得到明显改善.
关键词
开关器件
H处理
半导体器件
Keywords
Amorphous films
Hydrogen
Liquid crystals
Passivation
分类号
TN303 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
H处理对a-Si TFT矩阵性能的改善作用
赵颖
熊绍珍
孟志国
代永平
周祯华
姚伦
张建军
孙钟林
徐温元
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1997
3
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