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超声波辅助湿法腐蚀制备多晶Si低反射表面 被引量:1
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作者 王艺帆 周浪 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第10期888-891,共4页
为降低光在多晶Si表面的反射,一种以湿法腐蚀为基础,添加超声波震荡的新方法,首次被用来腐蚀多晶Si太阳能电池片。利用扫描电子显微镜观察发现,此法所制备的多晶Si片表面形成了较多窄而深的沟壑状结构。其反射谱测试结果表明,此方法所... 为降低光在多晶Si表面的反射,一种以湿法腐蚀为基础,添加超声波震荡的新方法,首次被用来腐蚀多晶Si太阳能电池片。利用扫描电子显微镜观察发现,此法所制备的多晶Si片表面形成了较多窄而深的沟壑状结构。其反射谱测试结果表明,此方法所获得的凹凸表面的减反射效果良好,加权反射率达到3.5%;同时减反射效果对入射光波长选择性不明显。最后,在实验的基础上对腐蚀机理进行了深入的探讨,认为超声波的空泡特性有利于腐蚀的纵向深入,抑制了腐蚀的横向发展,是形成此沟壑状形貌的主要原因。 展开更多
关键词 多晶硅 织构化 湿法腐蚀 超声波
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