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题名一种集成稳压电路的设计与研究
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作者
兰燕娜
薛同莲
罗向东
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机构
南通大学理学院
南通大学省专用集成电路设计重点实验室
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出处
《制造业自动化》
北大核心
2011年第4期25-27,39,共4页
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基金
江苏省高校自然科学重大科研项目(08KJA510002)
南通市科技应用计划项目(K2008024)
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文摘
设计了一种采用CSMC 0.6um CMOS工艺的集成带隙基准电压源电路。仿真结果表明,在电源电压VDD为5V时,在的温度范围内,电路得到一个温度系数为37.3533ppm/℃,电源抑制比(PSRR)为43.98dB的带隙基准电压输出,性能较为理想。
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关键词
温度系数
带隙基准
CMOS工艺
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分类号
TN43
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名单一杂质半导体中杂质电离状态判定
被引量:1
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作者
罗向东
戴兵
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机构
南通大学省专用集成电路设计重点实验室
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出处
《南通职业大学学报》
2009年第1期64-67,96,共5页
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基金
江苏省高校自然科学重大基础研究项目(08KJA510002)
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文摘
利用电中性条件,通过分析不同温度下杂质浓度和少子浓度的相对关系以及杂质未电离比率,讨论了如何判定具有单一杂质的半导体中杂质的电离状态并计算相应状态下的载流子浓度;通过判定少子浓度是远低于还是远高于杂质浓度,或是与杂质浓度相当,可有效区分饱和电离区、过渡区以及本征电离区并得到有效的载流子浓度计算公式;通过计算未电离杂质的比率可有效判定杂质半导体是处于低温弱电离区、中间电离区或饱和电离区,并得到其载流子浓度计算公式;最后通过实例说明判定方法的应用并计算相应的载流子浓度。
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关键词
杂质半导体
电中性条件
杂质电离
少子浓度
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Keywords
doped semiconductor
charge neutrality
ionization of dopant
minority carrier concentration
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分类号
O472.4
[理学—半导体物理]
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