薄膜光学常数的原位测定

薄膜的光学常数(折射率和消光系数)精度直接影响设计和制造的光学器件的性能。大多数光学常数的测定方法较为复杂,不能直接应用在镀膜过程中。提出了一种薄膜光学常数原位实时测量的方法,通过监测沉积材料的透射率可以快速准确地测量光学常数。测量了高吸收材料Si、低吸收材料Ta_(2)O_(5)和超低吸收材料SiO_(2)的近红外光学常数,用这种方法测得光学常数分别为n=3.22,k=4.6×10^(-3),n=2.06,k=1.3×10^(-3)和n=1.46,k=6.6×10^(-5)。该方法适用于强吸收材料和弱吸收材料光学常数的测定,为在线精确测量薄膜的光学常数提供了一种有效的方法,对设计和制造高质量的光学器件具有重要意义。