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退火处理对离子束溅射WO_(3-x)薄膜结构和特性的影响
被引量:
3
1
作者
苏江滨
王智伟
+3 位作者
祁昊
潘鹏
朱贤方
蒋美萍
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2021年第1期65-71,共7页
利用离子束溅射结合后退火处理的方法制备了WO_(3-x)(0≤x≤1)薄膜,系统研究了不同退火气氛、退火温度和退火时间等条件对WO_(3-x)薄膜的晶体结构以及电学、光学和电致变色特性的影响。研究发现,当退火温度超过WO3结晶温度后,特别是在...
利用离子束溅射结合后退火处理的方法制备了WO_(3-x)(0≤x≤1)薄膜,系统研究了不同退火气氛、退火温度和退火时间等条件对WO_(3-x)薄膜的晶体结构以及电学、光学和电致变色特性的影响。研究发现,当退火温度超过WO3结晶温度后,特别是在湿氧气氛下,退火温度越高、退火时间越长,WO_(3-x)薄膜的结晶度越好,除WO3主晶相显著增强以外,还会陆续出现O29W10、O49W18和WO_(2)等缺氧相;在干氧条件下,更高的退火温度和更长的退火时间都有助于降低WO_(3-x)薄膜的电阻值,也都有助于WO_(3-x)薄膜可见光透过率的提升;WO_(3-x)薄膜电致变色器件在632.8 nm波长处的光学调制值达到了70%左右,表现出良好的电致变色特性。
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关键词
氧化钨(WO_(3-x))薄膜
电致变色器件
离子束溅射
光学调制
可见光透过率
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职称材料
题名
退火处理对离子束溅射WO_(3-x)薄膜结构和特性的影响
被引量:
3
1
作者
苏江滨
王智伟
祁昊
潘鹏
朱贤方
蒋美萍
机构
常州
大学
微电子与控制工程
学院
电子
科学与
技术
实验
中心
厦门大学物理科学与技术学院中国–澳大利亚功能纳米材料联合实验室
东南
大学
东南
大学
-FEI纳皮米中心
东南
大学
MEMS教育部重点
实验室
出处
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2021年第1期65-71,共7页
基金
江苏省自然科学基金资助项目(BK20191453)
常州大学大学生课外创新基金暨“挑战杯·卓越”项目(2020-Z13)。
文摘
利用离子束溅射结合后退火处理的方法制备了WO_(3-x)(0≤x≤1)薄膜,系统研究了不同退火气氛、退火温度和退火时间等条件对WO_(3-x)薄膜的晶体结构以及电学、光学和电致变色特性的影响。研究发现,当退火温度超过WO3结晶温度后,特别是在湿氧气氛下,退火温度越高、退火时间越长,WO_(3-x)薄膜的结晶度越好,除WO3主晶相显著增强以外,还会陆续出现O29W10、O49W18和WO_(2)等缺氧相;在干氧条件下,更高的退火温度和更长的退火时间都有助于降低WO_(3-x)薄膜的电阻值,也都有助于WO_(3-x)薄膜可见光透过率的提升;WO_(3-x)薄膜电致变色器件在632.8 nm波长处的光学调制值达到了70%左右,表现出良好的电致变色特性。
关键词
氧化钨(WO_(3-x))薄膜
电致变色器件
离子束溅射
光学调制
可见光透过率
Keywords
WO_(3-x)thin film
electrochromic device
ion beam sputtering
optical modulation
visible light transmittance
分类号
TN304.21 [电子电信—物理电子学]
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
退火处理对离子束溅射WO_(3-x)薄膜结构和特性的影响
苏江滨
王智伟
祁昊
潘鹏
朱贤方
蒋美萍
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2021
3
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