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无铅纯锡镀层变黄的原因及控制方法 被引量:2
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作者 徐建建 《安徽电子信息职业技术学院学报》 2010年第3期26-27,共2页
纯锡电镀中存在着许多问题,如锡晶须、镀层变色及镀液混浊等。这些问题对工业电子电镀过程来说是非常重要的,本文主要针对上海某家甲基磺酸电镀体系,研究镀层变黄的现象,原因及防止镀层变色的方法。
关键词 无铅 纯锡电镀 镀层变黄
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基于用友ERP U821的生产管理系统的开发与应用 被引量:1
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作者 金波 《安徽电子信息职业技术学院学报》 2010年第6期25-26,共2页
基于用友ERP U821管理软件的车间管理系统,主要实现了销售合同到生产计划的转换、自动生成生产流程卡、生产流程进度控制、合格证的自动生成打印等主要功能,减轻了生产计划人员根据工艺制定流程卡时大量重复书写的工作负担,同时也减轻... 基于用友ERP U821管理软件的车间管理系统,主要实现了销售合同到生产计划的转换、自动生成生产流程卡、生产流程进度控制、合格证的自动生成打印等主要功能,减轻了生产计划人员根据工艺制定流程卡时大量重复书写的工作负担,同时也减轻了生产调度人员在工序中查询到期流程卡的工作量,及时发现生产过程中的问题,提高合同履约率及生产效率。同时促进了企业的规范化生产。 展开更多
关键词 用友 管理系统 企业资源计划 U821
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匀胶胶厚均匀性的研究
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作者 徐建建 《安徽电子信息职业技术学院学报》 2018年第1期39-41,共3页
片式薄膜电阻器的生产采用光刻的工艺来实现电阻图形,会大大降低膜层所受到的应力,保证电阻的稳定性和一致性。改进光刻胶的涂覆均匀性是改进光刻工艺一种最节省成本最有效的技术手段。对匀胶工艺中的最关键的两个技术参数转速和时间进... 片式薄膜电阻器的生产采用光刻的工艺来实现电阻图形,会大大降低膜层所受到的应力,保证电阻的稳定性和一致性。改进光刻胶的涂覆均匀性是改进光刻工艺一种最节省成本最有效的技术手段。对匀胶工艺中的最关键的两个技术参数转速和时间进行了分析,同时研究了前烘的温度和时间对显影图形的影响。 展开更多
关键词 光刻 匀胶 胶厚 均匀性
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NiCr薄膜的沉积及其湿法刻蚀
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作者 徐建建 《安徽电子信息职业技术学院学报》 2017年第6期33-35,共3页
片式薄膜电阻一般采用平面磁控溅射NiCr薄膜沉积在三氧化二铝陶瓷基片上,然后通过光刻工艺来实现电阻图形,通过使用扫描电子显微镜观察不同溅射功率、溅射时间下的NiCr膜层形貌,分析了溅射功率、溅射时间对溅射的影响,同时使用湿法刻蚀... 片式薄膜电阻一般采用平面磁控溅射NiCr薄膜沉积在三氧化二铝陶瓷基片上,然后通过光刻工艺来实现电阻图形,通过使用扫描电子显微镜观察不同溅射功率、溅射时间下的NiCr膜层形貌,分析了溅射功率、溅射时间对溅射的影响,同时使用湿法刻蚀做出所需要的电阻图形。 展开更多
关键词 平面磁控溅射 功率 NiCr薄膜 湿法刻蚀
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RJK-Ⅰ型激光刻槽机刻槽槽纹质量分析
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作者 徐建建 《安徽电子信息职业技术学院学报》 2010年第4期14-15,共2页
本文从分析使用RJK-Ⅰ型激光刻槽机对金属膜电阻器激光刻螺旋槽的槽纹质量,探讨槽纹误差产生的原因及影响因素,最后提出减小误差的途径。
关键词 金属膜电阻器 激光刻槽 槽纹质量
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