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电子顺磁共振研究巨磁电阻锰氧化物La_(0.67)Ca_(0.33)MnO_3的顺磁到铁磁的相变 被引量:3
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作者 董凤霞 郑荧光 +5 位作者 田宏伟 丁涛 阚东武 高彦君 赵竹弟 郑伟涛 《吉林大学学报(理学版)》 CAS CSCD 北大核心 2004年第4期591-593,共3页
采用高温固态反应法制备了具有钙钛矿结构的多晶氧化物La0 67Ca0 33MnO3,利用X射线衍射、电子顺磁共振等实验技术研究其结构和顺磁到铁磁的磁性相转变.电子顺磁共振实验可以观测到样品在磁有序转变温度(Tc)附近的动态磁性相转变,并且与... 采用高温固态反应法制备了具有钙钛矿结构的多晶氧化物La0 67Ca0 33MnO3,利用X射线衍射、电子顺磁共振等实验技术研究其结构和顺磁到铁磁的磁性相转变.电子顺磁共振实验可以观测到样品在磁有序转变温度(Tc)附近的动态磁性相转变,并且与磁化强度的实验结果一致.对Tc附近的磁性相转变进行了分析. 展开更多
关键词 LA0.67CA0.33MNO3 电子顺磁共振 磁性 巨磁电阻 锰氧化物 相变 磁化强度 固态反应法 相转变 多晶
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高阻ITO基板上电化学沉积ZnO薄膜的研究 被引量:5
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作者 侯旭峰 荆海 +1 位作者 谷长栋 张会平 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期15-20,共6页
利用电化学沉积法,以65±1℃的0.1mol/LZn(NO3)2水溶液作为电解质溶液,在方块电阻为118Ω/□的氧化铟锡(ITO)玻璃基板上制备了ZnO薄膜。利用扫描电镜观察了ZnO薄膜表面形貌,结果表明随着电极电势的降低或沉积时间的增加,ZnO薄膜表... 利用电化学沉积法,以65±1℃的0.1mol/LZn(NO3)2水溶液作为电解质溶液,在方块电阻为118Ω/□的氧化铟锡(ITO)玻璃基板上制备了ZnO薄膜。利用扫描电镜观察了ZnO薄膜表面形貌,结果表明随着电极电势的降低或沉积时间的增加,ZnO薄膜表面颗粒的六方形结构逐渐明显。利用X射线衍射技术分析了阴极电势和沉积时间对ZnO薄膜择优取向的影响,结果表明ZnO薄膜的(002)择优取向是随电极电势的下降而逐渐减弱的,而且随沉积时间的增加(002)择优取向也逐渐减弱。透射光谱测量表明,实验所获得的ZnO薄膜在可见光范围内是透光的,平均透过率高达80%~90%,不同阴极电势下的禁带宽度均为3.5eV左右,且在阴极电势为-2.5V时,禁带宽度随沉积时间的增加而逐渐减小。 展开更多
关键词 ZNO薄膜 电化学沉积 ITO基板 禁带宽度
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钙钛矿锰氧化物Y_(0.5)Ca_(0.5)Mn_(0.8)Fe_(0.2)O_3的电子顺磁共振研究 被引量:6
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作者 田宏伟 胡小颖 郑伟涛 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期725-727,共3页
用固相反应法制备了Y0.5Ca0.5Mn0.8Fe0.2O3多晶陶瓷材料, 借助电子顺磁共振技术对多晶样品在150~300 K温度范围内的顺磁共振行为进行了研究.结果表明样品的顺磁共振线宽ΔHpp和g因子的值随着温度的降低是增加的.线宽的增加是由于随着... 用固相反应法制备了Y0.5Ca0.5Mn0.8Fe0.2O3多晶陶瓷材料, 借助电子顺磁共振技术对多晶样品在150~300 K温度范围内的顺磁共振行为进行了研究.结果表明样品的顺磁共振线宽ΔHpp和g因子的值随着温度的降低是增加的.线宽的增加是由于随着温度的降低, 样品进入一个长程的反铁磁态, 体系的铁磁关联增强导致的.g因子随温度的降低而增加表明体系的轨道有序是逐渐增强的. 展开更多
关键词 锰氧化物 Y0.5Ca0.5Mn0.8Fe0.2O3 电子顺磁共振 电荷有序
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低碳钢在铝合金熔体中冲蚀磨损的研究
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作者 孙大仁 曹占义 +2 位作者 杨晓红 刘勇兵 孙妍 《腐蚀科学与防护技术》 CAS CSCD 北大核心 2003年第5期288-291,共4页
重点研究了在搅拌铸造过程中低碳钢搅拌桨在铝合金熔体中的冲蚀磨损随时间和转速的变化规律和机理 .结果表明 :搅拌桨的冲蚀磨损速度随搅拌时间和搅拌速度的增加而增加 ,但随搅拌时间的增加有一孕育期 ,低于孕育期 ,冲蚀磨损速度很小 .... 重点研究了在搅拌铸造过程中低碳钢搅拌桨在铝合金熔体中的冲蚀磨损随时间和转速的变化规律和机理 .结果表明 :搅拌桨的冲蚀磨损速度随搅拌时间和搅拌速度的增加而增加 ,但随搅拌时间的增加有一孕育期 ,低于孕育期 ,冲蚀磨损速度很小 .该孕育期随搅拌速度的增加而减小 ,并且在转速超过 10 0 0r/min以上 ,加速减小 .搅拌桨在铝合金熔体的冲蚀磨损过程是一个表面净化 ,铝原子扩散 ,化合物的形成和剥离过程 ,冲蚀磨损速度主要与氧化物的生成速度和氧化物的剥离速度有关 . 展开更多
关键词 低碳钢 铝合金熔体 冲蚀磨损 搅拌铸造 复合材料
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衬底温度对Fe-N薄膜结构、形貌及磁性能的影响
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作者 王丽丽 王欣 +2 位作者 宫杰 郑伟涛 宗占国 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第11期1838-1842,共5页
采用直流磁控溅射方法,以Ar和N2作为放电气体,在单晶Si(100)衬底上沉积了Fe-N薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱分析仪(XPS)、原子力显微镜(AFM)和超导量子干涉仪(SQUIDS)对所制备的样品进行了结构、成分、形貌和磁性能分析... 采用直流磁控溅射方法,以Ar和N2作为放电气体,在单晶Si(100)衬底上沉积了Fe-N薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱分析仪(XPS)、原子力显微镜(AFM)和超导量子干涉仪(SQUIDS)对所制备的样品进行了结构、成分、形貌和磁性能分析,研究了衬底温度对薄膜的结构、形貌和磁性能的影响。结果表明:衬底温度对Fe-N薄膜的结构有重要的影响,通过控制衬底温度可以获得单相γ-′Fe4N化合物薄膜;γ-′Fe4N具有较高的饱和磁化强度,是非常有应用前景的磁记录介质及磁头功能材料。 展开更多
关键词 FE-N薄膜 衬底温度 磁性能
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