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铝合金微弧氧化陶瓷膜形成过程中的特性研究 被引量:32
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作者 吴汉华 于凤荣 +2 位作者 李俊杰 吕宪义 金曾孙 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期617-622,共6页
保持交流电压脉冲幅度不变,对浸在硅酸钠和氢氧化钠溶液中的铝合金样品进行了微弧氧化处理,发现在陶瓷膜形成过程中,样品的电流随时间明显分成五个不同阶段.对应各阶段所制备的陶瓷膜分别用扫描电镜和X射线衍射仪进行了分析,结果表明,... 保持交流电压脉冲幅度不变,对浸在硅酸钠和氢氧化钠溶液中的铝合金样品进行了微弧氧化处理,发现在陶瓷膜形成过程中,样品的电流随时间明显分成五个不同阶段.对应各阶段所制备的陶瓷膜分别用扫描电镜和X射线衍射仪进行了分析,结果表明,铝合金微弧氧化陶瓷膜主要由γ-Al_2O_3和α-Al_2O_3相组成,其含量随氧化时间变化.陶瓷膜内外层α,γ相含量差异主要是由于微弧区熔融的Al_2O_3凝固时冷却速率不同引起的. 展开更多
关键词 微弧氧化 陶瓷膜 表面形貌 相结构
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磁控溅射CN_x薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系 被引量:8
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作者 李俊杰 王欣 +4 位作者 卞海蛟 郑伟涛 吕宪义 金曾孙 孙龙 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期305-308,共4页
对磁控溅射生长在单晶Si(001)衬底上的CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系进行了研究。CNx薄膜沉积实验在纯N2的环境下进行,衬底温度(Ts)保持在350℃,衬底偏压(Vb)在0~-150V之间变化。利用原子力显微镜(AFM)和划痕试验机来测量CN... 对磁控溅射生长在单晶Si(001)衬底上的CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系进行了研究。CNx薄膜沉积实验在纯N2的环境下进行,衬底温度(Ts)保持在350℃,衬底偏压(Vb)在0~-150V之间变化。利用原子力显微镜(AFM)和划痕试验机来测量CNx薄膜的表面粗糙度及对衬底的附着力。AFM和划痕实验的结果显示衬底偏压Vb对CNx薄膜的附着力和表面粗糙程度的影响很大,在-100V偏压下生长的CNx薄膜表面最光滑(粗糙度最小),同时对Si(001)衬底的附着力最好。最后根据实验结果确定了在单晶Si(001)衬底上生长光滑而且附着力好的CNx薄膜的最佳实验条件。 展开更多
关键词 磁控溅射 CNX薄膜 附着力 粗糙度 衬底偏压 碳氮薄膜 薄膜测量
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Ho/Ni作为催化剂合成单壁碳纳米管 被引量:8
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作者 姚明光 刘冰冰 +6 位作者 邹永刚 李冬妹 艾晓雷 王霖 于世丹 邹广田 B Sundqvist 《新型炭材料》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期70-74,共5页
利用直流电弧等离子体方法,以Ho/Ni作为催化剂合成了单壁碳纳米管,借助扫描电子显微镜、拉曼光谱和热重分析方法对所合成的单壁碳纳米管的形貌、结构以及含量进行了表征。电镜观察以及热重分析表明,收集到的大量网状物中单壁碳纳米管含... 利用直流电弧等离子体方法,以Ho/Ni作为催化剂合成了单壁碳纳米管,借助扫描电子显微镜、拉曼光谱和热重分析方法对所合成的单壁碳纳米管的形貌、结构以及含量进行了表征。电镜观察以及热重分析表明,收集到的大量网状物中单壁碳纳米管含量较高;不同激发波长拉曼测量表明碳纳米管直径分布比较集中,在1.35nm^1.69nm范围,且直径为1.5nm的碳纳米管占多数;与Ce/Ni等作为催化剂合成的单壁碳纳米管的直径分布不同。研究结果表明,Ho/Ni对于合成单壁碳纳米管具有很好的催化效果且影响管径分布,元素Ho对单壁碳纳米管的形成起到了重要的作用。 展开更多
关键词 单壁碳纳米管 拉曼光谱 催化剂 稀土金属
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静水压对牛奶中细菌生长繁殖的影响 被引量:3
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作者 池元斌 马小凡 +2 位作者 崔田 崔启良 金曾孙 《高压物理学报》 CAS CSCD 北大核心 1995年第3期224-227,共4页
在20~120MPa静水压力范围内,研究了压力对鲜牛奶中细菌的生长繁殖的影响。我们发现,在室温及20MPa静水压下受压5min后,细菌的生理活性显著降低,其生长繁殖受到抑制,而且生理活性的降低是一种压力非在位效应。
关键词 细菌 生理活性 压力抑制 牛奶 灭菌 乳酸菌
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分子筛组装单质半导体碲的拉曼光谱 被引量:1
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作者 罗薇 黄海龙 +4 位作者 杨玉昆 李冬妹 邹广田 蔡强 白妮 《光散射学报》 1999年第4期351-354,共4页
无机介孔材料MCM41是高有序,直孔道介孔分子筛,具有孔径约4nm的一维均匀孔道,孔壁厚约1nm,介孔体积可达40%,是一种很理想的组装材料主体。半导体碲位于第Ⅵ族,其六方相的晶格排列呈螺旋链状结构。本文采用固相合成反应方法,将单质半导... 无机介孔材料MCM41是高有序,直孔道介孔分子筛,具有孔径约4nm的一维均匀孔道,孔壁厚约1nm,介孔体积可达40%,是一种很理想的组装材料主体。半导体碲位于第Ⅵ族,其六方相的晶格排列呈螺旋链状结构。本文采用固相合成反应方法,将单质半导体碲成功地组装在MCM41介孔分子筛中。在组装体中,单质半导体碲保持着六方相的晶体结构,其拉曼晶体振动表现出纳米晶体的结构特征。真空热处理实验表明,组装体具有良好的热稳定性。Te的六方相和所具有的独特的螺旋链状结构使Te分子很容易进入MCM41的直孔道内,同时MCM41均匀而规则的直孔道限制了Te螺旋链的随机排列,因而被组装在直孔道内的Te能螺旋链式生长,形成一维半导体纳米晶体,排列均匀,尺寸单一。 展开更多
关键词 Te/MCM-41 半导体 拉曼光谱 分子筛
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金属富勒烯La@C_(2n)的合成、提取及其ESR和MS表征
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作者 刘冰冰 徐文国 +4 位作者 刘子阳 杨海滨 李明辉 刘淑莹 邹广田 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1996年第5期690-692,共3页
采用对掺入La_2O_3的石墨棒原位活化并结合交换电极回放方法制备了产率较高的金属富勒烯,并用甲苯高温热提取的方法有效地提取出La@C_(2n),其中La@C_(74)为可溶性金属富勒烯增加了新成员.同时,首次采用解吸电... 采用对掺入La_2O_3的石墨棒原位活化并结合交换电极回放方法制备了产率较高的金属富勒烯,并用甲苯高温热提取的方法有效地提取出La@C_(2n),其中La@C_(74)为可溶性金属富勒烯增加了新成员.同时,首次采用解吸电子轰击质谱对提取物进行了表征,讨论了提取物的ESR谱. 展开更多
关键词 金属 富勒烯 ESR DEIMS
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高压合成立方氮化硼的振动光谱
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作者 张铁臣 杨钧 +2 位作者 赵永年 邹广田 崔启良 《高压物理学报》 CAS CSCD 北大核心 1992年第1期30-36,共7页
本文利用FT-IR和Raman光谱对用不同触媒高压合成的不同颜色立方氮化硼晶格振动的声子吸收和散射进行了研究。获得了较完整的晶格振动信息,并在1000—1300cm^(-1)范围内,观测到了3个新的振动谱带,其中一个位于1089cm^(-1),归属为体TO声... 本文利用FT-IR和Raman光谱对用不同触媒高压合成的不同颜色立方氮化硼晶格振动的声子吸收和散射进行了研究。获得了较完整的晶格振动信息,并在1000—1300cm^(-1)范围内,观测到了3个新的振动谱带,其中一个位于1089cm^(-1),归属为体TO声子和表面TO声子组合带,另两条513、801cm^(-1)推测为杂质诱发吸收带。 展开更多
关键词 立方氮化硼 振动光谱 高压合成
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Abinitio方法研究2,4-二甲基-1,3-戊二烯稳定构象的拉曼光谱
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作者 赵冰 赵永年 +2 位作者 陶艳春 吴梦月 李学奎 《光散射学报》 1995年第2期90-91,95,共3页
Abinitio方法研究2,4-二甲基-1,3-戊二烯稳定构象的拉曼光谱赵冰,赵永年,陶艳春,吴梦月,李学奎(吉林大学分子光谱与分子结构开放实验室)(吉林大学超硬材料国家重点实验室)(吉林大学理论化学计算国家重点实验... Abinitio方法研究2,4-二甲基-1,3-戊二烯稳定构象的拉曼光谱赵冰,赵永年,陶艳春,吴梦月,李学奎(吉林大学分子光谱与分子结构开放实验室)(吉林大学超硬材料国家重点实验室)(吉林大学理论化学计算国家重点实验室长春130023)AbIniti... 展开更多
关键词 Abinitio方法 2 4-二甲基-1 3-戊二烯 稳定构象 拉曼光谱 共轭双烯类分子
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