分子光谱法研究漆黄素与DNA的相互作用

利用多种光谱技术及伏安技术研究了漆黄素与DNA之间的相互作用.由荧光光谱法可知,DNA对漆黄素的猝灭过程是静态猝灭,计算得到不同温度下二者的结合常数及结合位点数.ΔH,ΔS,ΔG的计算结果表明漆黄素与DNA的作用力为范德华力或氢键作用.循环伏安法进一步表明了DNA的加入使漆黄素的峰电位发生了移动,二者产生了有效结合.离子强度实验、黏度法、紫外光谱法、圆二色光谱法、DNA熔解温度实验和单双链DNA对比实验的结果均表明漆黄素与DNA的结合是嵌插结合模式.