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三种厚度硅涂层对氧化锆陶瓷与牙本质瓷结合强度的影响 被引量:3
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作者 张献芳 郑虎 韩栋伟 《同济大学学报(医学版)》 CAS 2009年第6期101-105,共5页
目的探讨三种厚度的硅涂层对氧化锆陶瓷与牙本质瓷结合性能的影响。方法将烧结后的氧化锆陶瓷片分为3组,每组16片,分别采用:(1)100 nm硅涂层;(2)200 nm硅涂层;(3)300 nm硅涂层处理。在3组涂层组试件的结合面烧结牙本质瓷,测试其结合强度... 目的探讨三种厚度的硅涂层对氧化锆陶瓷与牙本质瓷结合性能的影响。方法将烧结后的氧化锆陶瓷片分为3组,每组16片,分别采用:(1)100 nm硅涂层;(2)200 nm硅涂层;(3)300 nm硅涂层处理。在3组涂层组试件的结合面烧结牙本质瓷,测试其结合强度,数据用SPSS 13.0软件进行统计学分析。结果200 nm组结合强度最高,与100 nm,300 nm组差别有统计学意义(P<0.05)。结论200 nm为硅涂层较适宜的厚度,可以显著提高氧化锆陶瓷与不透明牙本质瓷的结合强度。 展开更多
关键词 氧化锆陶瓷 硅涂层 结合强度 厚度
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