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气氛及压强对MOCVD红外测温的影响 被引量:6
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作者 杨超普 方文卿 《商洛学院学报》 2015年第4期43-46,共4页
利用自主搭建的可径向移动的940 nm单波长红外辐射测温仪,研究了Thomas Swan CCS MOCVD第二次Bake过程中,反应室在不同气氛(氢气、氮气以及氢氮混合气体)和不同压强(13.33-53.33 k Pa)下径向温度分布。试验结果表明:压强为13.33 k Pa,MO... 利用自主搭建的可径向移动的940 nm单波长红外辐射测温仪,研究了Thomas Swan CCS MOCVD第二次Bake过程中,反应室在不同气氛(氢气、氮气以及氢氮混合气体)和不同压强(13.33-53.33 k Pa)下径向温度分布。试验结果表明:压强为13.33 k Pa,MOCVD反应室内的气氛不同时,红外测温结果主要受气体导热系数的影响;在20 L氢气下,反应室内压强越大温度越高;在压强为13.33 k Pa,H2流量的不同对测温影响不大。该研究结果可为MOCVD反应室的红外辐射测温与精确控温提供参考。 展开更多
关键词 MOCVD 红外辐射测温 在线监测
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