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IBAD MoS_2-Ta膜的电子显微与能谱分析 被引量:3
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作者 王培录 刘仲阳 +2 位作者 廖小东 孙官清 郑思孝 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 1999年第3期143-148,共6页
用透射电子显微镜与能谱技术对离子束辅助沉积的MoSo2-Ta膜的形态、结构、组成以及元素的化学态等进行了观察和分析。发现膜在沉积过程中已产生部分晶化,膜体出现衬度鲜明的白色“团簇”点缀的两相特殊形态。TEM与XPS分... 用透射电子显微镜与能谱技术对离子束辅助沉积的MoSo2-Ta膜的形态、结构、组成以及元素的化学态等进行了观察和分析。发现膜在沉积过程中已产生部分晶化,膜体出现衬度鲜明的白色“团簇”点缀的两相特殊形态。TEM与XPS分析确定白色“团簇”属析出的第二相TaS2。两区都具有(002)、(100)和(110)取向,面间距与晶格常数都比MoS2单晶增大,“白区”的参数又比膜基体略大。去离子水浸泡和高温氧化实验表明,MoS2-Ta膜的耐水解、抗氧化能力远比同一条件沉积的MoS2膜优越。 展开更多
关键词 离子束辅助沉积 TEM XPS 复合膜 二氧化钼
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