液晶实时掩膜技术制作连续微光学元件

提出制作连续微光学元件的一种新技术———液晶实时掩膜技术 ,阐述了其基本原理和制作方法。基于部分相干光成像理论 ,采用计算机模拟了用实时掩膜制作微透镜和微轴锥镜阵列的过程。同时建立了实验装置进行实验 ,用全色银盐干板 (Kodak 131)通过酶刻蚀得到口径为 118.7μm ,深为 1.32 2 μm的 5 6× 48的轴锥镜的列阵。

制作重铬酸盐明胶微光学元件的化学裂解刻蚀方法

从生物化学和蛋白质的裂解机制出发 ,提出一种新的重铬酸盐明胶 (DCG)浮雕形成方法———化学裂解刻蚀法。由于化学裂解试剂较胰蛋白酶具有少得多的作用位点 ,化学裂解方法比明胶酶蚀方法具有更高的刻蚀分辨率。实验考察表明 ,化学裂解方法可以获得 5 0 0lines mm的刻蚀分辨率。应用化学裂解方法 ,利用投影曝光系统和灰度掩摸 ,制作了单元线宽为 30 μm ,深度为 0 8μm的连续浮雕明胶微棱镜列阵。

实时灰阶掩膜技术制作微透镜列阵

提出一种制作连续微结构的实时灰阶掩膜技术 ,它将液晶显示 (LCD)系统和投影光刻系统相结合 ,利用液晶显示系统实时显示一系列二值图形来获得连续的灰度记录 ,给出了原理分析。基于部分相干光成像理论 ,进行了微透镜制作的计算机模拟。建立了实验装置 ,并采用全色卤化银明胶 (Kodak131)通过酶刻蚀得到半径为 5 9 33μm ,深为 1 6 38μm的 5 6× 4

酶蚀卤化银明胶制作连续微结构

提出酶蚀卤化银明胶制作连续深浮雕微结构的新方法。给出了卤化银明胶酶蚀成像原理和深刻蚀过程机理的理论分析。求得存在吸收时 ,刻蚀深度与曝光量关系的解析式。表明胶膜对光的吸收是造成其非线性关系的主要原因 ,并提出了解决方案和优化工艺参数 ,通过实验得到在刻蚀深度为 4 μm范围内有良好的线性关系 。

基于微结构制作的溶胶凝胶浸渍成膜特性

针对制作溶胶 凝胶 (sol gel)微光学元件的需要 ,对溶胶 凝胶浸渍提拉成膜过程中膜厚、均匀性等成膜特性进行了仔细考察。对于室温干燥情况 ,提拉成膜厚度与提拉速度的经验关系为 :低速时膜厚与提拉速度呈 1 2次幂关系 ;高速时则偏离以上关系 ,且随速度的增大 ,膜厚增加缓慢。对成膜过程的分析表明 ,挥发过程对溶胶

挡光型可变光衰减器的衰减量构成的分析

从机械挡光型衰减器的原理结构出发 ,在理论与实验两方面证实了挡光型可变衰减器的衰减量应包括直接挡光能量衰减和模场失配衰减两部分 ,并得出了这两种衰减量之间的相互关系。