蓝宝石衬底上制备氮化硅薄膜的研究

采用射频磁控反应溅射法在蓝宝石和硅衬底上制备出Si3N4薄膜。利用XPS和FTIR分析了所制备薄膜的成分和结构,讨论了工艺参数对沉积速率的影响。结果表明,Si3N4薄膜的沉积速率随溅射气压的增大出现先增后减的趋势,衬底温度对沉积速率没有明显的影响。溅射气压的降低、衬底温度的提高将有利于获得高质量的Si3N4薄膜。

监控调压在无人值守阀室中的应用

对满足城市供气管网所需的无人值守调压阀室进行了讨论。分析了两种不同监控阀室的工作原理及使用情况,并提出了用以满足GB50028-2006的要求且不需要过大增加投资的方案。