金属间化合物Ni3Al薄膜制备工艺

采用直流磁控共溅射法,通过一步法、两步法工艺在衬底为SiO2基体上制备了厚度为500 nm的Ni3Al薄膜,X射线衍射(XRD)和透射电镜(TEM)等测试表明,一步法工艺制备的Ni3Al薄膜为(111)取向的多晶型晶体结构金属间化合物优于两步法工艺。采用光学显微镜观察Ni-Al合金薄膜和金属间化合物Ni3Al薄膜经高温氧化后的形貌,结果表明,Ni3Al金属间化合物薄膜的高温抗氧化性能明显优于Ni-Al合金薄膜。