试论以发明构思为主导的专利审查原则

本文从低质量的授权专利出发,查找其出现的原因,提出了解决办法,并给出了一个具体的审查方案。该审查方案的核心是:在审查员已经给出对比文件的情况下,申请人应当能够重新认定自己的发明构思,即明确与对比文件的实质性区别在哪里,解决了什么新的技术问题。如不能明确,则申请人不应当要求审查员承担相应的举证义务。

非球面透镜磨削加工专利技术分析

进入21世纪以来,由于非球面透镜满足多片球面透镜矫正像不佳的效果,并且能够提高成像品质,满足系统鉴别能力的需求,从而达到减少透镜数量,并使透镜的精度更好,简化重量和结构。同时,非球面透镜应用领域广泛,例如军事、航空航天、光通讯和激光应用等领域以及人体学、医疗、流体学等民用领域。本文对非球面光学透镜的磨削与抛光加工领域的专利申请进行了分析,从全球、中国的专利申请量、申请人的分布、重要申请人等多角度进行统计和分析,阐述了该领域的专利申请发展趋势,追踪了其发展脉络,对其技术手段和技术发展方向进行了分析梳理。

关于“负面的”或“否定的”信息是否构成“相反教导”的探讨

本文针对审查实践中的争议焦点——对比文件记载的“负面的”或“否定的”信息是否构成“相反教导”,结合三个具体案例,提出判断相反教导的基本原则,对审查实践具有一定的参考价值。