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铁电/超导集成薄膜的微结构性质研究
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作者 于文学 刘保亭 《北京同步辐射装置年报》 1998年第1期130-133,共4页
关键词 铁电/超导集成薄膜 微结构 直流/射频磁控溅射 X射线衍射
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PZT/LSCO集成薄膜的微结构性质研究
2
作者 于文学 刘保亭 《同步辐射装置用户科技论文集》 1999年第1期279-282,共4页
本文主要利用X射线衍射技术研究由直流/射频磁控溅射方法制备的PbZr0.53Ti0.47O3(PZT)/La1.85Sr0.15CuO4(LSCO)集成薄膜的界面和表面的微结构,从而给出它的界面和表面的均方根粗糙度,有效晶粒尺寸,应变大小,用计算反射率方法对小... 本文主要利用X射线衍射技术研究由直流/射频磁控溅射方法制备的PbZr0.53Ti0.47O3(PZT)/La1.85Sr0.15CuO4(LSCO)集成薄膜的界面和表面的微结构,从而给出它的界面和表面的均方根粗糙度,有效晶粒尺寸,应变大小,用计算反射率方法对小角衍射曲线做理论模拟,从我们的实验结果可见,当所制备的铁电/超导薄膜PZT层厚度从48.7nm到996.0nm变化而LSCO层保持1000?不变时,PZT与LSCO的应变状态不同,相差近一个数量级,同时PZT层表面的均方根粗糙度略有增加,本报告对实验结果作了初步讨论。 展开更多
关键词 薄膜 集成器件 X射线衍射 微结构
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