酸性光亮镀铜溶液中氯化物的分析方法

在酸性光亮镀铜溶液中,Cl^-的多少对镀铜层质量有比较重要的作用,准确掌握镀铜溶液中Cl^-的含量,是当前酸性光亮镀铜急需要解决的问题。目前分析酸性光亮镀铜溶液中Cl^-。国内有些单位采用沉淀分离铜,用硝酸银直接滴定Cl^-。由于沉淀对Cl^-有一定的吸附性,测定结果的误差较大。根据这种情况,我们做了大量工作,终于试验出一种较快速的容量分析方法。分析Cl^-的方法如下。

化学镀铜溶液中EDTA和酒石酸钾钠的回收和利用

一、引言化学镀铜是在碱性溶液中进行,因此要加入络合剂或螯合剂以防止二价铜以氢氧化物形式沉淀,提高溶液的阴极极化,控制沉积率和改善镀层质量。化学镀铜过程中,会有少量的Cu_2O产生,Cu_2O在碱性溶液中会发生歧化反应而形成金属铜。Cu_2O和Cu分散在溶液中成为镀液自发分解的催化中心。这是镀液不稳定的根本原因。随着Cu_2O逐渐增加,沉积速度加快,镀液的寿命缩短,特别是酒石酸盐类型化学镀铜溶液的寿命更短。

槽液中过量氯离子的处理

引言酸性光亮镀铜工艺,都将Cl^-作为电解液的一个重要成份列入规范,并要求严格控制在20-80mg/L之间。其含量过低或过高都将严重影响镀层的质量和光亮度。根据国内外资料报道,Cl^-含量<5mg/L时,整平性、光亮度都很差,镀层粗糙有针孔,对光亮剂的添加很敏感,易产生条纹和烧焦,当Cl^-含量>100mg/L时,光亮度、整平性明显下降。低电流密度区发暗不亮,甚至产生疏松镀层,同一挂具上零件亮度不均匀,调整光亮剂效果不明显。这些现象的出现,主要是生成了CuCl沉淀,当电镀时该沉淀物分布在阴极周围,甚至吸附在零件上,使Cu^(2+)

酒石酸钾钠的测定

目前,酒石酸盐塑化学镀铜溶液中酒石酸钾钠的分析测定,一般均采用高锰酸钾进行氧化反应,通过消耗高锰酸钾的量来计算酒石酸钾钠的含量。由于化学镀铜溶液中的甲醛及其它还原剂均与高锰酸钾反应,故造成分析结果偏高的现象,从而不能准确测定酒石酸钾钠的含量、桂林市国营长海机器厂试验成功用硝酸铅滴定酒石酸钾钠。此滴定方法,操作简单,易掌握,终点明显。其测定结果与理论值大致相同,相对误差小,是一种值得推广的测定方法测定方法的摘要:酒石酸根与硝酸铅生成酒石酸铅的白色沉淀,其沉淀溶于氨水中。过量的铅和氢氧根生成氢氧化铅白色沉淀为终点。

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采用调频电机转速随机调制的捷变频雷达的抗干扰效果

本文简要地叙述了以旋转调谐磁控管为高频振荡器的非相参频率捷变雷达由于其调谐规律为正弦曲线,因而易受窄带瞄准干扰和频率预置干扰;并从理论和实践上阐明采用调频电机转速随机调制对窄带瞄准干扰和频率预置干扰的抗干扰效果。