材料研究领域的热点

美国材料协会(MRS)是国际上最著名和主要的材料科学研究组织,该组织每年召开秋季和春季两次会议。

频域光信息存储中的光谱烧孔动力学研究

通过对频域光信息存储中的光谱烧孔，即信息写入过程中的动力学研究，成功地克服了影响多重光谱烧孔的困难。

高频辅助溅射沉积及氩气压对Co/Cu磁性多层膜结构和性能的影响

磁控溅射制备薄膜时，工作气体氩气的压强是一个非常重要的参量，氩气压的高低直接影响薄膜的结构形态，这在制备超薄多层膜过程中显得更为重要。利用高频辅助溅射沉积，可使工作气体的压强降低1个数量级，从实验和理论上给予了阐述。最后从巨磁电阻振荡效应方面，对所制备的磁性多层膜的界面状况进行了分析。

聚合物LB膜定向铁电液晶的特性

利用新近合成的聚酰亚胺ＬＢ膜定向铁电液晶分子，通过原子力显微镜对经不同亚胺化温度处理的聚酰亚胺ＬＢ膜进行扫描探测，发现相应的ＬＢ膜具有不同的形貌结构，认为高温亚胺化的ＬＢ膜可以提供较高的势垒，这为铁电液晶双稳记忆性的出现提供了可能，而ＬＢ膜的超薄特性有利于开关过程中表面聚积电荷的中和与释放，保证了器件优良的双稳记忆性的最终获得以及微秒量级快速响应的实现。

多孔硅量子约束效应导致的红外多光子激发荧光

采用超短脉冲近红外光(1.06μm)激发,首先在多孔硅表面观察到了较强的可见区荧光产生.荧光强度与激发光强度的三次方关系表明,有效的荧光产生起源于三阶非线性光学效应的增强.对多孔度低的样品观察不到这种荧光发射.通过与多孔硅的紫外光(355 nm)激发谱的比较,我们把这种有效的多光子激发过程归结为来源于多孔硅的量子约束效应.

光电联姻将改变目前的信息技术

光学与光电子在世界范围内得到许多科技工作者的极大关注,主要是因为电子技术将达到极限,而光学与电子技术的联姻极有可能改变当前信息技术、信息存储、通讯、机器人、信号与数字处理、计算与仪器等方面的现状。

三维光子能隙材料的微模法制备及其光学性质的测量

采用微模法制备了三维光子能降(PBG,photonic band gap)材料,得到了TiO_2为骨架的条状光子能隙材料样品。其微观结构为fcc密堆积的直径200nm左右的空气球,宏观结构为彼此相距10μm的横截面为矩形的长条,矩形宽度为10μm,高度600nm。用光纤导入激光的方法对条状结构光子能隙材料的光学性质进行了测量,结合SEM的测量结果并与通常的静置重力堆积制备的光子能隙材料样品进行了比较,证实了这是一种方便、有效的制备具有图形的光子能隙材料的方法。

不同制备条件下的Co/Cu多层膜的巨磁电阻及铁磁共振研究

用溅射方法制备了几批Co／Cu多层膜和夹层膜样品，通过测试发现：Co／Cu多层膜样品的巨磁电阻与制备条件有关。在较高本底真空和较低工作气压条件下制备的样品具有较大的巨磁电阻，其铁磁共振测试的结果和Heinrich的夹层膜的理论计算结果相吻合．

SiO_2-GeO_2薄膜电场极化后倍频效率与极化电压的超平方关系

采用溶胶凝胶方法制备了 Ｓｉ Ｏ２ Ｇｅ Ｏ２ 薄膜．通过对薄膜样品平板电极极化和电晕极化后二次谐波产生信号的研究，发现样品中有效偶极子数目随平板电极极化电压的增加而逐渐增大．提出了有效偶极子释放模型，解释了样品倍频效率与极化电压之间的超平方关系．

关于表面稳定模式铁电液晶盒的扭曲状态的研究

测量了表面稳定模式铁电液晶富的一种扭曲状态的透射谱，并利用Berraman的4×4阶矩阵法进行了模拟，发现了一种新的扭曲状态．

用脉冲激光沉积方法制备氮化铝薄膜

介绍了用脉冲激光沉积 (PLD)方法制备AlN薄膜的工作 ,在Si(10 0 )衬底上得到了光滑平整、透明度高的AlN薄膜 ,由实验结果拟合得到能隙宽度为 5 7eV。考察了衬底温度和退火温度的影响。

啁啾型周期性调制晶体中感应非线性群速度色散的研究

提出了一种研究啁啾型周期极性铌酸锂晶体 (CPPLN)中非线性群速度色散的简单方法。发现不仅谐波可以获得色散 ,而且在一定条件下基频光也可以在CPPLN中获得色散。讨论了CPPLN的色散特性 ,并与传统色散元件进行了比较。

多孔硅结构与发光机理的非线性光学研究

最近的研究中,采用1.06μm超短脉冲光激发,在多孔硅表面观察到了有效的红外多光子激发的荧光发射.研究表明,这是一个增强的三阶非线性光学过程.本文利用其三阶非线性特性对具有强可见光发射的多孔硅结构进行了研究,结果显示晶体硅的各向异性特征在多孔硅中几乎被保留;此外,较强的激光激发导致的红外上转换荧光信号衰减过程被归结为与多孔硅表面氢的脱附有关.