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脉冲激光溅射沉积光学增益薄膜实验研究
被引量:
2
1
作者
刘中凡
郝雪
+2 位作者
周松强
朱文选
宋昌烈
《应用激光》
CSCD
北大核心
2008年第2期120-123,共4页
用脉冲激光沉积方法,以多靶交替溅射方式,在SiO2/Si基底上沉积镱铒共掺Al2O3光学薄膜,讨论了脉冲激光能量对薄膜沉积速率、表面形貌、光致发光强度的影响。在脉冲激光能量较高条件下制备出的薄膜的光致发光性能较好,脉冲激光能量较低条...
用脉冲激光沉积方法,以多靶交替溅射方式,在SiO2/Si基底上沉积镱铒共掺Al2O3光学薄膜,讨论了脉冲激光能量对薄膜沉积速率、表面形貌、光致发光强度的影响。在脉冲激光能量较高条件下制备出的薄膜的光致发光性能较好,脉冲激光能量较低条件下制备出的薄膜的表面形貌较均匀。综合放大器增益系数对光致发光强度和光刻工艺对薄膜表面形貌的要求,薄膜应该在合适的激光能量下制备。脉冲激光溅射沉积方法与中频磁控溅射方法相比,在抑制上转换发光方面具有优越性。
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关键词
脉冲激光沉积
镱铒共掺Al2O3薄膜
表面形貌
光致发光
原文传递
题名
脉冲激光溅射沉积光学增益薄膜实验研究
被引量:
2
1
作者
刘中凡
郝雪
周松强
朱文选
宋昌烈
机构
大连大学物理科学与技术学院激光光电子实验室
出处
《应用激光》
CSCD
北大核心
2008年第2期120-123,共4页
基金
国家自然科学基金资助项目(项目编号:60477023)
文摘
用脉冲激光沉积方法,以多靶交替溅射方式,在SiO2/Si基底上沉积镱铒共掺Al2O3光学薄膜,讨论了脉冲激光能量对薄膜沉积速率、表面形貌、光致发光强度的影响。在脉冲激光能量较高条件下制备出的薄膜的光致发光性能较好,脉冲激光能量较低条件下制备出的薄膜的表面形貌较均匀。综合放大器增益系数对光致发光强度和光刻工艺对薄膜表面形貌的要求,薄膜应该在合适的激光能量下制备。脉冲激光溅射沉积方法与中频磁控溅射方法相比,在抑制上转换发光方面具有优越性。
关键词
脉冲激光沉积
镱铒共掺Al2O3薄膜
表面形貌
光致发光
Keywords
Pulse laser deposition (PLD)
Er^3+/Yb^3+ co-doped Al2O3 films
surface topography
photoluminescence
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
脉冲激光溅射沉积光学增益薄膜实验研究
刘中凡
郝雪
周松强
朱文选
宋昌烈
《应用激光》
CSCD
北大核心
2008
2
原文传递
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