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热丝法制备多晶硅薄膜的研究进展
被引量:
1
1
作者
柴展
张贵锋
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第12期1538-1545,共8页
综述了热丝化学气相沉积法(HWCVD),制备多晶硅薄膜的发展过程,着重介绍了这种制备方法在近几年的研究进展,并展望了今后发展趋势和前景。
关键词
热丝化学气相沉积
多晶硅
微晶硅
太阳电池
薄膜晶体管
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职称材料
题名
热丝法制备多晶硅薄膜的研究进展
被引量:
1
1
作者
柴展
张贵锋
机构
大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性实验室
出处
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第12期1538-1545,共8页
文摘
综述了热丝化学气相沉积法(HWCVD),制备多晶硅薄膜的发展过程,着重介绍了这种制备方法在近几年的研究进展,并展望了今后发展趋势和前景。
关键词
热丝化学气相沉积
多晶硅
微晶硅
太阳电池
薄膜晶体管
Keywords
hot-wire CVD
poly-Si
μc-Si : H
solar cells
TFTs
分类号
TB43 [一般工业技术]
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
发文年
被引量
操作
1
热丝法制备多晶硅薄膜的研究进展
柴展
张贵锋
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
1
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