NdFe_(7-x)Mo_x薄膜的制备和磁性研究

利用对向靶溅射，同时对基片进行退火处理的方法，在玻璃基片上成功地制备出了NdFe7-xMox（x=0，0．5）薄膜，并对其进行了磁性研究。VSM测量结果表明，Mo掺入导致了材料矫顽力Hc的增大，却相应降低了饱和磁化强度Ms。随着退火温度T的提高，Hc随之增大，当T=573K时，出现一极大值为37．8kA／m，此时的热磁测量表明，样品具有最高居里温度，Tc=775K。