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富铟熔体生长InP晶体中的微观缺陷
1
作者
冯丰
王书杰
王阳
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2014年第11期748-751,共4页
通过原位磷注入液封直拉(LEC)法在富铟熔体中生长了<100>方向的磷化铟单晶,并研究了晶体内缺陷形态及形成机制。在富铟熔体中生长的磷化铟晶锭中发现,多种形态富铟夹杂物镶嵌在磷化铟基体中。在晶片的抛光过程中,由于局部受力不...
通过原位磷注入液封直拉(LEC)法在富铟熔体中生长了<100>方向的磷化铟单晶,并研究了晶体内缺陷形态及形成机制。在富铟熔体中生长的磷化铟晶锭中发现,多种形态富铟夹杂物镶嵌在磷化铟基体中。在晶片的抛光过程中,由于局部受力不均匀导致富铟夹杂周围的晶体出现裂纹。通过研究发现,除了磷化铟晶体的各向异性外,局部的冷却条件也控制着晶体凝固过程,进而控制着富铟夹杂物的形态。由于磷化铟基体与富铟夹杂物的热膨胀系数不同,在富铟多面体夹杂物产生了很大的应力,进而导致富铟夹杂物附近出现了位错聚集现象。经讨论给出了这些夹杂物的形成机制及其对晶体质量的影响。
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关键词
单晶生长
微观缺陷
富铟
熔体
磷化铟(InP)
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职称材料
题名
富铟熔体生长InP晶体中的微观缺陷
1
作者
冯丰
王书杰
王阳
机构
天津电子信息职业技术学院机械制造与自动化系
专用集成电路重点实验室
中国
电子
科技集团公司第十三研究所
出处
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2014年第11期748-751,共4页
基金
国家科技重大专项资助项目(2011ZX01006-001)
国家青年科学基金项目(51401186)
文摘
通过原位磷注入液封直拉(LEC)法在富铟熔体中生长了<100>方向的磷化铟单晶,并研究了晶体内缺陷形态及形成机制。在富铟熔体中生长的磷化铟晶锭中发现,多种形态富铟夹杂物镶嵌在磷化铟基体中。在晶片的抛光过程中,由于局部受力不均匀导致富铟夹杂周围的晶体出现裂纹。通过研究发现,除了磷化铟晶体的各向异性外,局部的冷却条件也控制着晶体凝固过程,进而控制着富铟夹杂物的形态。由于磷化铟基体与富铟夹杂物的热膨胀系数不同,在富铟多面体夹杂物产生了很大的应力,进而导致富铟夹杂物附近出现了位错聚集现象。经讨论给出了这些夹杂物的形成机制及其对晶体质量的影响。
关键词
单晶生长
微观缺陷
富铟
熔体
磷化铟(InP)
Keywords
single crystal growth
micro defect
indium-rich
melt
indium phosphide (InP)
分类号
TN304.23 [电子电信—物理电子学]
TN304.053 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
富铟熔体生长InP晶体中的微观缺陷
冯丰
王书杰
王阳
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2014
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