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高透过率液晶显示拼接墙的设计与开发
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作者 李洪 柴慧平 +1 位作者 徐松嵩 杨康 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2018年第3期202-207,共6页
为了实现高透过率液晶显示拼接墙,提高对外界光源的透过率,同时减少拼接缝隙,进行了透明液晶显示模组的设计和开发。为增加透过率,首先,在像素设计方面,优化走线设计提高开口率;其次,在彩膜特性方面,采用减薄色阻方法优化透过谱,搭配高... 为了实现高透过率液晶显示拼接墙,提高对外界光源的透过率,同时减少拼接缝隙,进行了透明液晶显示模组的设计和开发。为增加透过率,首先,在像素设计方面,优化走线设计提高开口率;其次,在彩膜特性方面,采用减薄色阻方法优化透过谱,搭配高透率偏光片;最后,在像素排布方面,选择了RGBW的像素设计,其中W像素数量占总像素数量的50%,实验得到透过率为19.4%,NTSC为30%的模组。为减少显示拼接墙的拼接缝隙,单个显示模组的栅极电路驱动,采用栅集成电路(GOA)设计,实现了2.5mm窄边框。由于透过率和窄边框的要求,模组需要实现RGBW和GOA的显示驱动,在FPGA上编写控制程序,进行驱动时序控制和算法处理,最终制作了16×2排布的高透过率液晶显示拼接墙。 展开更多
关键词 透明液晶显示 RGBW 彩膜 FPGA
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