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非晶硒合金膜的制备方法研究 被引量:2
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作者 孔玮曼 张斌 温婷婷 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2006年第7期52-55,共4页
基于传统工艺,新研制开发了一套非晶硒合金膜制备的设备和工艺流程。实验采用高真空电阻加热蒸镀方法,已制备出面积为180mm×180mm的非晶硒合金膜并进行了基本特性检测。测试结果表明:所制备的膜非晶化程度高,厚度最大为90μm,厚度... 基于传统工艺,新研制开发了一套非晶硒合金膜制备的设备和工艺流程。实验采用高真空电阻加热蒸镀方法,已制备出面积为180mm×180mm的非晶硒合金膜并进行了基本特性检测。测试结果表明:所制备的膜非晶化程度高,厚度最大为90μm,厚度分布比较均匀,相对误差在10%以内。所制备的膜满足光电转换膜的基本特性要求。 展开更多
关键词 半导体技术 非晶硒 X射线平板探测仪 热蒸镀
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