平面研磨中磁粒刷运动轨迹规划的试验研究

在磁力研磨工艺中,磁粒刷的运动轨迹直接影响工件的表面精度和均匀性。在自行设计的试验装置上,通过施加公转运动方式优化磁粒刷运动轨迹并进行试验研究,对研磨前后工件的表面粗糙度、横截面形状及3D微观形貌等进行检测与对比。结果表明:优化研磨轨迹后,表面质量和平面均匀性均较传统工艺有不同程度的提高,且当磁粒刷公转半径大于自转半径时效果最好。另外,还建立了研磨粒子的轨迹表达式,通过Graph软件对轨迹仿真分析,与试验结果相一致,因此可以针对工件形状和表面质量要求,预先规划合理研磨轨迹。

平面磁力研磨轨迹的研究与分析

利用自行设计的试验装置,改善了磁力刷的研磨轨迹。结果表明:改善磁力刷研磨轨迹后,不仅可以减小表面粗糙度值、提高平面精度,还改善了研磨截面微观形状均匀性。另外,可通过采取理论分析的方法对研磨效果进行预测。

基于恒压的平面磁力研磨效果分析

利用自行设计的平面磁力研磨装置,在磁极的轴向施加一定的恒压力后对研磨效果进行了试验研究,与未施压力条件下的研磨效果进行了比较。通过对比表面粗糙度、材料去除量、断面形状以及3D表面轮廓等参数变化规律,结合磁力研磨理论,分析了出现差异的原因。结果表明:轴向施加恒压后,在较短时间内可使研磨效率明显提高,但随着时间的增加,研磨效率开始逐渐下降;工件最终的表面粗糙度虽较传统方法稍差,但断面形貌、3D表面轮廓明显好于后者。