重氮萘醌衍生物在光刻胶和药物载体领域的研究进展

重氮萘醌(DNQ)及其衍生物的结构中具有重氮基团和羰基等多个光敏活性官能团,经光照后其重氮基团发生Wolff重排,转化为亲水性茚羧酸。在光刻胶领域,茚羧酸可促进正性光刻胶树脂的分解和溶解性能,有利于提高图案的分辨率;DNQ结构中有非极性的苯环可用于封装疏水性纳米药物,当其发生光敏反应时,通过其结构极性转变,能实现纳米药物的定量、定时和定位输送。本文总结了DNQ及其衍生物在光刻胶和纳米药物控制释放领域的应用和研究进展,介绍了其作为光致产酸剂的作用机理研究;展望了其在化学和生物医疗等领域的应用前景。

聚倍半硅氧烷类树脂在各波长光刻技术中的研究进展

聚倍半硅氧烷(polyhedral oligomeric silsesquioxane,简称POSS)是一类具有独特结构的有机-无机杂化聚合物材料,具有优异的透明性、力学性能、低介电性、耐热性、耐溶剂性和耐蚀刻性,在光刻胶领域具有广泛的应用。本文以光刻材料随着光刻技术加工波长的发展历程为轴,综述了POSS树脂用作可见光、近/紫外光、深紫外/真空紫外光、极紫外和电子束光刻胶材料等方面的研究进展,总结了POSS内部无机结构和外部有机链段种类对材料在不同波段应用性能的影响,分析了POSS基光刻胶的存在的问题,展望了其应用前景。