高密度热解氮化硼材料的制备及性能表征

本文采用化学气相沉积法(CVD)制备热解氮化硼,通过调整CVD温度、CVD压力,获得了密度大于2.17g/cm^3、金属杂质含量小于10×10^(-6)、层结构均匀、室温热导率达90 W/m·K的高密度热解氮化硼板材。测试结果表明,不同密度热解氮化硼材料的性能差异较大,高密度热解氮化硼产品具有更加优越的理化性质。

SiO_2-TiO_2纳米复合薄膜的制备及分析

通过溶胶-凝胶法,以正硅酸乙酯和钛酸丁酯为前驱体,并改变正硅酸乙酯和钛酸丁酯的用量制备出均匀性良好的SiO_2-TiO_2纳米复合薄膜。对这种SiO_2-TiO_2纳米薄膜进行X射线衍射、红外光谱、热重、差热及X射线光电子能谱等性能分析。结果表明:SiO_2-TiO_2复合薄膜组成元素为C、O、N、Ti和Si等,红外光谱和热分析确定了薄膜样品中含有的有机基团,主要为—CH2—、—CH2、—CH3和—CH等,其中已经不含明显的Si—O键,主要是Ti—O—S键。