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超大规模集成电路硅片溶液清洗技术的进展 被引量:3
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作者 张树永 郭永榔 +1 位作者 曹宝成 于新好 《化学进展》 SCIE CAS CSCD 2000年第1期103-107,共5页
本文综述了超大规模集成电路制造过程中硅片溶液清洗技术的研究历史及现状,并对技术的未来发展进行了展望。
关键词 VLSI 集成电路 硅片 溶液清洗技术 清洁度
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