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聚焦偏转复合系统像差分析及应用
被引量:
3
1
作者
尹明
张玉林
《微细加工技术》
2002年第4期7-10,共4页
介绍了以DX - 3扫描电镜为基础 ,利用SDS - 2电子束扫描系统改装其偏转系统。并给出了磁聚焦和静电的偏转场相复合情况下竖轴点源的三级几何像差系数和一级色差系数公式。应用中表明 ,复合系统结构简单紧凑 。
关键词
像差
电子束
偏转系统
扫描电镜
SEM
磁聚焦
下载PDF
职称材料
题名
聚焦偏转复合系统像差分析及应用
被引量:
3
1
作者
尹明
张玉林
机构
山东大学南区控制学院电子束室
出处
《微细加工技术》
2002年第4期7-10,共4页
文摘
介绍了以DX - 3扫描电镜为基础 ,利用SDS - 2电子束扫描系统改装其偏转系统。并给出了磁聚焦和静电的偏转场相复合情况下竖轴点源的三级几何像差系数和一级色差系数公式。应用中表明 ,复合系统结构简单紧凑 。
关键词
像差
电子束
偏转系统
扫描电镜
SEM
磁聚焦
Keywords
aberration
E beam
deflection system
SEM
分类号
TN16 [电子电信—物理电子学]
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
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作者
出处
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被引量
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1
聚焦偏转复合系统像差分析及应用
尹明
张玉林
《微细加工技术》
2002
3
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职称材料
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